[发明专利]决定具有最佳聚焦深度照明光源的方法

权利要求书

1.一种决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，包含：

提供多个照明光源；

提供每个所述照明光源的一模拟最佳关联性和一模拟失焦关联性，其中所述模拟最佳关联性表示一给定照明光源的一最佳强度的位置函数，而所述模拟失焦关联性表示一给定照明光源的一失焦强度的位置函数；

决定所述模拟最佳关联性的一最佳峰值，和所述模拟失焦关联性的一失焦峰值；

计算所述最佳峰值与所述失焦峰值的一峰值变化；以及

将多个所述照明光源中具有一最低峰值变化的一照明光源决定为具有最佳聚焦深度的一照明光源。

2.根据权利要求1所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，所述模拟最佳关联性是由一光刻机台所决定的。

3.根据权利要求2所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，所述模拟失焦关联性是调整所述光刻机台的一光刻参数，使该参数偏离一最佳值而得。

4.根据权利要求1所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，对于每个所述照明光源而言，进行最多两次模拟，而获得所述模拟最佳关联性和所述模拟失焦关联性。

5.根据权利要求1所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，所述模拟最佳关联性的所述最佳峰值是所述模拟最佳关联性的最大最佳强度。

6.根据权利要求1所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，所述模拟失焦关联性的所述失焦峰值是所述模拟失焦关联性的最大失焦强度。

7.根据权利要求1所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，所述峰值变化是由下式计算所得：

峰值变化=（所述最佳峰值-所述失焦峰值）/（所述最佳峰值）。

8.一种决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，包含：

提供多个照明光源；

提供每个所述照明光源的一模拟最佳关联性和一模拟失焦关联性，其中所述模拟最佳关联性表示一给定照明光源的一最佳强度的位置函数，而所述模拟失焦关联性表示一给定照明光源的一失焦强度的位置函数；

决定所述给定照明光源的一最佳关联性斜率和一失焦关联性斜率，其中所述最佳关联性斜率表示在一给定尺寸下的所述模拟最佳关联性的一斜率，而所述失焦关联性斜率表示在一给定尺寸下的所述模拟失焦关联性的一斜率；

自所述最佳关联性斜率计算一最佳关联性比率，以及自所述失焦关联性斜率计算一失焦关联性比率；

计算所述最佳关联性比率与所述失焦关联性比率的一关联性变化；以及

将多个所述照明光源中具有一最低关联性变化的一照明光源决定为具有最佳聚焦深度的一照明光源。

9.根据权利要求8所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，所述模拟最佳关联性是由一光刻机台所决定的。

10.根据权利要求9所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，所述模拟失焦关联性是通过调整所述光刻机台的一光刻参数，使该参数偏离一最佳值而得。

11.根据权利要求8所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，对于每个所述照明光源而言，最多进行两次模拟可获得所述模拟最佳关联性和所述模拟失焦关联性。

12.根据权利要求8所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，所述给定尺寸为一半导体装置的一关键尺寸。

13.根据权利要求8所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，所述最佳关联性比例是由下式计算所得：

所述最佳关联性比例=（所述最佳关联性斜率）/（在所述给定尺寸的所述最佳强度）。

14.根据权利要求8所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，其中所述失焦关联性比率是由下式计算所得：

所述失焦关联性比率=（所述失焦关联性斜率）/（在所述给定尺寸的所述失焦强度）。

15.根据权利要求8所述的决定具有最佳聚焦深度的照明光源的方法，其特征在于，所述关联性变化是由下式计算所得：

所述关联性变化=（所述最佳关联性比例-所述失焦关联性比率）/（所述最佳关联性比例）。