[发明专利]环境稳定性深紫外光学薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种环境稳定性深紫外光学薄膜，包括镀膜光学基底、制备于镀膜光学基底上的氟化物膜层；其特征在于还包括制备于氟化物膜层上的氧化物膜层；所述氧化物膜层为SiO₂或Al₂O₃膜层，其聚集密度大于0.95，表面粗糙度小于0.2nm，光学厚度为四分之一中心波长的偶数倍。

2.根据权利要求1所述的环境稳定性深紫外光学薄膜，其特征在于所述镀膜光学基底材料为CaF₂或熔石英。

3.根据权利要求1所述的环境稳定性深紫外光学薄膜，其特征在于氟化物镀膜材料为MgF₂、LaF₃、AlF₃、Na₃AlF₆或GdF₃。

4.一种如权利要求1所述的环境稳定性深紫外光学薄膜的制备方法，包括下述步骤：

一、将镀膜光学基底进行清洗、干燥；

二、在清洗干燥后的镀膜光学基底上制备氟化物膜层；

三、在氟化物膜层上面制备一层聚集密度大于0.95、表面粗糙度小于0.2nm，且光学厚度为四分之一中心波长的偶数倍的SiO₂膜层或Al₂O₃膜层。

5.根据权利要求4所述的环境稳定性深紫外光学薄膜的制备方法，其特征在于所述氟化物膜层采用热舟蒸发工艺制备。

6.根据权利要求4所述的环境稳定性深紫外光学薄膜的制备方法，其特征在于所述SiO₂膜层或Al₂O₃膜层采用离子束辅助电子束蒸发工艺、等离子体辅助电子束蒸发工艺、离子束溅射工艺或磁控溅射工艺制备。