[发明专利]大型表膜构件的框体的把持方法

说明书

本发明是申请号为200880023582.8、申请日为2008年7月2日、发明名称为大型表膜构件的框体及该框体的把持方法的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及作为表膜构件（pellicle）的构成构件的框体，该表膜构件用于防止在制造构成LSI、液晶显示器（LCD）的薄膜晶体管（TFT）、滤色片（CF）等时的光刻工序中使用的光掩模、中间掩模（reticle）中附着异物。特别是涉及作为液晶用大型表膜构件的构成构件、即作为长边长度为1m以上的大型表膜构件的构成构件的框体。

背景技术

本发明是涉及作为表膜构件的构成构件的框体的技术，首先说明表膜构件。

以往，在半导体装置的制造中，在晶圆上形成电路图案的光刻工序中，通常使用被称作表膜构件的防尘部件来防止异物附着于光掩模、中间掩模。表膜构件是在形状与光掩模或者中间掩模的形状相符的、厚度为几毫米左右的框体的上缘面铺展并粘接厚度为10μm以下的硝酸纤维素、纤维素衍生物（cellulose derivative）或者氟类聚合物等透明的高分子膜（以下称作“表膜”）而成的。通常，表膜构件大多以在该框体的下缘面涂敷粘合材料、并在该粘合材料层上层叠保护膜而成的产品状态出货。

上述粘合材料层用于将表膜构件粘着于光掩模或者中间掩模，而且，上述保护膜为了在该粘合材料层被用于上述用途前维持粘合材料的粘接力而保护该粘合材料层的粘接面。

该表膜构件通常由表膜构件制造者提供给制造光掩模或者中间掩模的制造者（以下称作“掩模制造者”）。掩模制造者自表膜构件剥离上述保护膜，利用粘合材料层将表膜构件粘贴于光掩模或者中间掩模之后，将该掩模或者中间掩模提供给进行光刻的制造者、例如半导体装置制造者或者液晶面板制造者。

在表膜构件用作防尘部件的特性方面，该表膜构件的处理需要处理为不附着尘埃。通常，在处理表膜构件时，通常通过向形成在框体外侧面的孔中插入销状工具来把持，通过把持工具主体而使人手不会直接接触表膜构件（例如参照专利文献1）。另外，也提出了通过在框体的外侧面形成用于供旋转杆插入的槽而使用具有旋转杆的工具来把持，通过把持该工具的主体而使人手不会直接接触表膜构件（例如参照专利文献2）。

另外，在将表膜构件从表膜构件制造者搬运到掩模制造者时，为了不附着灰尘，通常将表膜构件放入到具有密封性的容纳容器中来进行搬运。当然，由于要求表膜构件被可靠地固定在容纳容器内，因此，也提出了通过向形成在框体外侧面的孔中插入销状功具而将表膜构件固定于容纳容器内的方法（例如参照专利文献3）。

另外，也提出了通过由构成容纳容器的托盘和盖夹着形成在框体外侧面上的水平突出部而将表膜构件固定于容纳容器的方法（例如参照专利文献4或5）。

并且，不仅注目于形成在框体外侧面上的突出部、槽或者孔对表膜构件的把持、固定功能，还对表膜构件的框体形状也进行了各种研究。例如，为了确保表膜构件内部与外部的透气性，提出了设置从框体外侧面贯穿到内侧面带有过滤器的孔（例如参照专利文献6）。

另外，为了控制从光掩膜的图案面到表膜的距离（基准距）（例如参照专利文献7～9）、控制掩膜粘合材料的伸出（例如参照专利文献10或11）、形成掩模粘合材料的台阶（例如参照专利文献12）、确保粘贴于光掩模时的加压区域（例如参照专利文献13），提出了在框体的上缘面或下缘面设槽、突起、台阶的各种形状。

近年来，随着LCD的大型化，光掩模及其使用的表膜构件也大型化，最长边的长度大于1m的表膜构件面世了。一般认为，今后，为了应对LCD的大型化、提高生产效率，光掩模的大型化也是必不可少的。

在大型光掩模的情况下，原料大多是合成石英基板，材料费非常昂贵。因此，相对于设定的有效曝光区域尺寸，光掩模尺寸通常设计得极小。

在是粘贴于大型光掩模上的大型表膜构件的情况下，鉴于光掩模尺寸的制约，对于被粘贴在从有效曝光区域到光掩模的外周端之间的表模的框体宽度也存在制约，即使表膜构件大型化，框体的宽度实际上也无法增大。

并且，由于从光掩模的图案面到表膜的距离（基准距）受到曝光机的光学系统制约，因此，对于框体的高度也存在制约，即使表膜构件大型化，框体的高度实际上也无法增大。

另一方面，作为抑制表膜的面积为1000cm²以上的大型表膜构件的框体挠曲的方法，提出了使框体的长边宽度大于短边宽度（例如参照专利文献14）。