[发明专利]硅基III-V外延材料图形异质键合均匀轴向力施力装置有效

专利信息
申请号: 201210139758.4 申请日: 2012-05-08
公开(公告)号: CN102646620A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 张冶金;郑婉华;渠红伟 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 硅基 iii 外延 材料 图形 异质键合 均匀 轴向 施力 装置
【权利要求书】:

1.一种硅基III-V外延材料图形异质键合均匀轴向力施力装置,包括:

一下施力盖板,该下施力盖板为圆片状;

一下承接托,该下承接托为圆片状,其上面均匀分布有多个圆孔,其位于下施力盖板之上;

一上施力托,该上施力托为圆片状,其上面均匀分布有多个圆孔,其位于下承接托之上;

其中在下承接托和上施力托之间通过多个定向圆柱插置连接,在下承接托和上施力托之间还有两个保护陪片,该两个保护陪片上下叠置;

一平凸透镜,其位于上施力托之上;

一上施力盖板,该上施力盖板为圆片状,其位于平凸透镜之上。

2.根据权利要求1所述的硅基III-V外延材料图形异质键合均匀轴向力施力装置,其中上施力托上的圆孔的数量为3个。

3.根据权利要求1所述的硅基III-V外延材料图形异质键合均匀轴向力施力装置,其中下施力盖板和上施力盖板的直径为80mm,厚度为20-50mm。

4.根据权利要求1所述的硅基III-V外延材料图形异质键合均匀轴向力施力装置,其中所述的下施力盖板、下承接托、定向圆柱、上施力托和上施力盖板的材料为不锈钢。

5.根据权利要求1所述的硅基III-V外延材料图形异质键合均匀轴向力施力装置,其中所述的保护陪片的材料为石英玻璃。

6.根据权利要求1所述的硅基III-V外延材料图形异质键合均匀轴向力施力装置,其中所述的下承接托和上施力托的直径为80mm,厚度为30-50mm。

7.根据权利要求1所述的硅基III-V外延材料图形异质键合均匀轴向力施力装置,其中所述下施力盖板、下承接托、上施力托、上施力盖板与平凸透镜的直径相同。

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