[发明专利]金属基带的多通道连续化电解抛光装置及抛光方法有效
申请号: | 201210139727.9 | 申请日: | 2012-05-08 |
公开(公告)号: | CN102851729A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 李贻杰 | 申请(专利权)人: | 上海超导科技股份有限公司 |
主分类号: | C25F3/16 | 分类号: | C25F3/16;C25F7/00 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张妍 |
地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 基带 通道 连续 电解 抛光 装置 方法 | ||
1.一种金属基带的多通道连续化电解抛光装置,其特征在于,该装置包含依次顺序设置的超声波粗洗槽(1)、第一漂洗槽(2)、电解抛光槽(3)、第二漂洗槽(4)、中和槽(5)、第三漂洗槽(6)、超声波精洗槽(7)和烘干箱(8),超声波粗洗槽(1)之前设置放带盘(11),烘干箱(8)之后设置收带盘(20),所述的超声波粗洗槽(1)、第一漂洗槽(2)、电解抛光槽(3)、第二漂洗槽(4)、中和槽(5)、第三漂洗槽(6)、超声波精洗槽(7)和烘干箱(8)上皆设置有通孔,待处理的基带(10)从放带盘(11)中拉出,依次通过超声波粗洗槽(1)、第一漂洗槽(2)、电解抛光槽(3)、第二漂洗槽(4)、中和槽(5)、第三漂洗槽(6)、超声波精洗槽(7)和烘干箱(8)上的通孔后,缠绕进入收带盘(20)。
2.如权利要求1所述的金属基带的多通道连续化电解抛光装置,其特征在于,所述的超声波粗洗槽(1)、第一漂洗槽(2)、电解抛光槽(3)、第二漂洗槽(4)、中和槽(5)、第三漂洗槽(6)和超声波精洗槽(7)分别连接有储液箱,超声波粗洗槽(1)连接第一储液箱(13),第一漂洗槽(2)连接第二储液箱(14),电解抛光槽(3)连接第三储液箱(15),第二漂洗槽(4)连接第四储液箱(16),中和槽(5)连接第五储液箱(17),第三漂洗槽(6)连接第六储液箱(18),超声波精洗槽(7)连接第七储液箱(19)。
3.如权利要求2所述的金属基带的多通道连续化电解抛光装置,其特征在于,所述的第一储液箱(13)、第二储液箱(14)、第四储液箱(16)、第五储液箱(17)、第六储液箱(18)和第七储液箱(19)中加入清水,所述的第三储液箱(15)中加入电解液。
4.如权利要求3所述的金属基带的多通道连续化电解抛光装置,其特征在于,所述的第一储液箱(13)、第二储液箱(14)、第三储液箱(15)、第四储液箱(16)、第五储液箱(17)、第六储液箱(18)和第七储液箱(19)分别连接有循环泵(12)。
5.如权利要求1所述的金属基带的多通道连续化电解抛光装置,其特征在于,所述的放带盘(11)和收带盘(20)上同时缠绕若干基带卷盘。
6.如权利要求1所述的金属基带的多通道连续化电解抛光装置,其特征在于,在本电解抛光装置中串联设置若干电解抛光槽(3),增加电解抛光速度。
7.如权利要求1所述的金属基带的多通道连续化电解抛光装置,其特征在于,所述的电解抛光槽(3)两端安装有与直流电源相接的若干阳极柱(301),电解抛光槽(3)内安装有与直流电源相接的若干阴极板(302)。
8.如权利要求7所述的金属基带的多通道连续化电解抛光装置,其特征在于,所述的阳极柱(301)为金属旋转滚轴,电解抛光槽(3)的两端分别设置3个阳极柱(301),基带(10)通过电解抛光槽(3)时,S型通过阳极柱(301),作为阳极进行电解,阴极板(302)设置一个或者两个,取决于金属基带需要单面抛光或双面抛光。
9.如权利要求8所述的金属基带的多通道连续化电解抛光装置,其特征在于,所述阴极板(302)为铅板,阳极柱(301)为钛合金。
10.一种金属基带的多通道连续化电解抛光方法,其特征在于,该电解抛光方法包含以下步骤:
步骤1、将清洗干净的待处理基带(10)连续缠绕在放带盘(11)上,再将待处理基带(10)的外端头从超声波粗洗槽(1)左侧通孔穿入,且依次经过第一漂洗槽(2)、电解抛光槽(3)、第二漂洗槽(4)、中和槽(5)、第三漂洗槽(6)、超声波精洗槽(7)和烘干槽(8)内部后,从烘干槽(8)右侧通孔拉出并缠绕在收带盘(20)上;
步骤2、将第一储液箱(13)、第二储液箱(14)、第四储液箱(16)、第五储液箱(17)、第六储液箱(18)和第七储液箱(19)中加入清水,然后打开循环泵(12),使水通入超声波粗洗槽(1)、第一漂洗槽(2)、第二漂洗槽(4)、中和槽(5)、第三漂洗槽(6)、超声波精洗槽(7),并使水面没过基带(10);
步骤3、将第三储液箱(15)中加入电解液,然后打开循环泵(12),使电解液循环通入电解抛光槽(3),并使电解抛光槽(3)的电解液没过基带(10);
步骤4、开启步进电机,驱动基带(10)匀速运动,打开与电解抛光槽(3)相连的直流电源,在电流密度为20A/ cm2 -60A/ cm2 的条件下进行连续电解抛光。
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