[发明专利]用于开放池培养微藻的阱式补碳装置及其补碳方法

权利要求书

1.一种用于开放池培养微藻的阱式补碳装置，包括阱式容器（1）、隔板（2）和气体分布器（3），其特征在于，所述气体分布器（3）设置于阱式补碳装置（6）的培养液进口处；所述阱式补碳装置（6）的培养液进口侧的厚度为开放池培养液层深度的0.5～2倍；所述隔板（2）下端与阱式容器（1）底部的间隙是阱式补碳装置（6）的培养液进口侧厚度的0.5～2倍；所述隔板（2）上端高出阱式容器壁，宽度与阱式容器（1）相配合。

2.根据权利要求1所述的阱式补碳装置，其特征在于，所述培养液进口侧的厚度为5～50厘米。

3.根据权利要求1所述的阱式补碳装置，其特征在于，所述阱式容器（1）深度15～150厘米，厚度20～200厘米，宽度与开放池宽度一致。

4.根据权利要求1所述的阱式补碳装置，其特征在于，所述阱式容器（1）的底部为平底、带圆角的平底、锥底或半圆底。

5.根据权利要求1所述的阱式补碳装置，其特征在于，所述隔板（2）厚度为1～5厘米。

6.根据权利要求1所述的阱式补碳装置，其特征在于，所述补碳装置一侧或两侧设置的搅拌器（5）叶尖低于开放池底，或所述隔板（2）的一侧或两侧设置的搅拌器（5）叶尖低于开放池底。

7.一种基于权利要求1所述阱式补碳装置的用于开放池培养微藻的补碳方法，其特征在于，将阱式补碳装置嵌入开放池底，阱式补碳装置的阱式容器上端沿与开放池的池底平齐，隔板高出开放池的培养液液面，使得培养液在搅拌器的推动下由阱式补碳装置的培养液进口流入下降段，与气体分布器释放的CO₂接触再经上升段由阱式补碳装置的培养液出口流出；

所述阱式补碳装置的培养液进口侧的培养液流速为15～100厘米/秒；

所述阱式补碳装置内气体分布器的CO₂流量，折合标准状况的纯CO₂，为每米开放池宽度0.1～20升/分钟。

8.根据权利要求7所述的补碳方法，其特征在于，所述开放池内培养液层深度为2～30厘米。

9.根据权利要求7所述的补碳方法，其特征在于，所述CO₂为净化烟道气、工业CO₂气体、纯净的CO₂气体或混合有CO₂的空气中的一种或多种或液态CO₂。

10.根据权利要求7所述的补碳方法，其特征在于，所述培养微藻的培养基为Zarrouk培养基、SM培养基、ASP₂培养基或BG-11培养基。

11.根据权利要求7所述的补碳方法，其特征在于，所述微藻为螺旋藻、栅藻、雨生红球藻、盐藻、小球藻或衣藻。