[发明专利]应用于离子束抛光工艺的离子束确定性添加装置及离子束抛光系统有效
| 申请号： | 201210135948.9 | 申请日： | 2012-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN102672550A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 戴一帆;李圣怡;廖文林;解旭辉;周林;袁征 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 43008 | 代理人： | 赵洪;杨斌 |
| 地址： | 410073 湖南省长沙市砚瓦池正*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 应用于 离子束 抛光 工艺 确定性 添加 装置 系统 | ||
1.一种应用于离子束抛光系统的离子束确定性添加装置，其特征在于：所述离子束确定性添加装置包括支撑架、支撑架中装设的离子源和受该离子源发出的离子束轰击的靶材，所述支撑架包括有固定所述靶材的靶材固定夹具，所述支撑架上设置有用于截取靶材溅射原子流的光阑；所述支撑架底部装设有用于安装至所述离子束抛光系统的安装法兰。
2.根据权利要求1所述的离子束确定性添加装置，其特征在于：所述光阑为设置于所述靶材前方的带孔钼板。
3.根据权利要求1或2所述的离子束确定性添加装置，其特征在于：所述靶材固定夹具上开设有腰形孔，所述靶材通过接头装设于腰形孔中。
4.一种离子束抛光系统，包括真空室、设于真空室内的运动系统和离子源系统，所述运动系统和离子源系统相互连接，其特征在于：所述离子束抛光系统中还设有权利要求1～3中任一项所述的离子束确定性添加装置，正对所述离子束确定性添加装置的离子束发射方向布置有材料去除工艺用夹具，正对所述离子束确定性添加装置的溅射原子流方向布置有材料添加工艺用夹具。
5.根据权利要求4所述的离子束抛光系统，其特征在于：所述材料去除工艺用夹具位于所述离子束确定性添加装置的上方，所述材料添加工艺用夹具位于所述离子束确定性添加装置的前方，装夹到所述材料去除工艺用夹具上的待加工光学元件与装夹到所述材料添加工艺用夹具上的待加工光学元件相互保持垂直。
6.根据权利要求4或5所述的离子束抛光系统，其特征在于：所述真空室由上真空罩和下真空罩拼接组成。
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