[发明专利]一种酸性蚀刻液在线回用及提取制作铜板的方法无效
申请号: | 201210135391.9 | 申请日: | 2012-05-04 |
公开(公告)号: | CN102677061A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 王晓波;王万春 | 申请(专利权)人: | 江门市蓬江区大盈机电设备有限公司 |
主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46;C25C1/12 |
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地址: | 529000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 酸性 蚀刻 在线 提取 制作 铜板 方法 | ||
技术领域:
本发明属于电路板蚀刻制造领域中的蚀刻液再生方法,具体涉及的是一种酸性蚀刻液在线回用及提取制作铜板的方法。
背景技术:
现有的PCB生产使用到的酸性蚀刻液的处理办法一般是经过蚀刻液参数调配破坏掉蚀刻性能后进行萃取来进行进行重金属回收,或者经过其他的手段生成氧化铜和大量单一的子液,两种方法都没有实现单质铜和蚀刻液在线回用,而带来大量的废水排放,在当前环保政策下,这些废水的排放都严重制约PCB企业的发展。
发明内容:
针对现有技术存在的缺陷,本发明的目的是提供一种可以在线再生及提取出纯铜的酸性蚀刻液在线回用及提取制作铜板的方法。
本发明解决其技术问题所采取的技术方案是:一种酸性蚀刻液在线回用及提取制作铜板的方法,所述包括如下步骤:
1)使用第一液泵将蚀刻液从蚀刻线上输送到中转塔中;
2)使用第二液泵将中转塔中的蚀刻液输送到再生室中;
3)所述的蚀刻液从再生室流动到再生室外设置的电解室中,即再生室设置在电解室中;
4)使用第三液泵将电解室中的蚀刻液输送蚀刻线上。
优选地,所述的再生方法还包括如下步骤:
1)在电解室中多余的蚀刻液通过溢出口流到中转槽中,
2)添加电解添加剂到中转槽中使蚀刻液成为电解液;
3)使用第四液泵将中转槽中的电解液输送到电解室中。
所述的再生室在反应过程中的温度保证在30°至40°之间。
所述的再生室内的蚀刻液比重在1.25~1.275之间。
所述的再生室的侧壁为铁氟龙网布及磺酸型催化剂涂层组成。
所述的再生方法还包括使用第五液泵将中转槽中的多余电解液输送到一电解液暂存塔中。
本发明的酸性蚀刻液在线回用及提取制作铜板的方法采用在线循环再生的方式,通过电解把一部分一价铜离子氧化成二价铜离子,同时再把蚀刻液回流到蚀刻线上,实现在线回用,还可以把另外一部分铜离子通过再生室壁在电解室内还原成单质铜,杜绝了现有的方法中存在微量的一价铜能在铜表面形成氯化亚铜膜,阻止蚀刻反应,严重影响蚀刻速率和品质的缺陷,具有明显提高生产效率及环保的优点,同时电解生成的单质铜板可再生回用,达到国家一级铜标准99.95%。
附图说明:
图1为本发明结构示意图。
具体实施方式:
如图1所示,一种酸性蚀刻液在线回用及提取制作铜板的方法,所述包括如下步骤:
1)使用第一液泵将蚀刻液从蚀刻线上输送到中转塔中;
2)使用第二液泵将中转塔中的蚀刻液输送到再生室中;
3)所述的蚀刻液从再生室流动到再生室外设置的电解室中,即再生室设置在电解室中;由于再生室中蚀刻液为单向流动,再生室与电解室的蚀刻液具有隔离作用。
4)使用第三液泵将电解室中的蚀刻液输送蚀刻线上。
优选地,所述的再生方法还包括如下步骤:
1)在电解室中多余的蚀刻液通过溢出口流到中转槽中;
2)添加电解添加剂到中转槽中使蚀刻液成为电解液;
3)使用第四液泵将中转槽中的电解液输送到电解室中。
在上述步骤中,添加的电解添加剂为现有技术中的添加剂产品,添加的量为保证电解液中的电解添加剂控制在1000∶1左右为准,实行人工添加控制。
所述的再生室在反应过程中的温度保证在30°至40°之间。温度对蚀刻速率的影响:温度较低会影响蚀刻液的活性使得时刻效率降低,过高会造成蚀刻液药剂挥发,使得溶液组分比例失调。
所述的再生室内的蚀刻液比重在1.25~1.275之间。不可电解过度。
所述的再生室的侧壁为铁氟龙网布及磺酸型催化剂涂层组成。所述的磺酸型的催化剂为现有技术中的磺酸型聚苯乙烯二乙烯苯等。
所述的再生方法还包括使用第五液泵将中转槽中的多余电解液输送到一电解液暂存塔中。
本方法基本原理是将一价铜离子分别在再生室和电解室中生成二价铜离子和铜板,抑制一价铜离子的含量在蚀刻液中的比重。
随着铜的蚀刻,溶液中的一价铜离子越来越多,蚀刻能力很快就会下降,以至最后失去效果,为保证连续的蚀刻能力,可以通过一定方法进行再生,使一价铜离子重新转变成二价铜离子,达到正常工艺标准。
现有的酸性蚀刻反应的原理:
络合反应:CU2CL2+4CL-→2「CUCL3」2-
蚀刻反应:CU+CUCL2→CU2CL2
本方法中在,涉及的反应有:
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