[发明专利]紫外光辅助的表面改性方法及具有由此方法形成的表面的制品

权利要求书

1.用于紫外光辅助的聚合物材料表面改性方法的改性分子，所述改性分子具有光敏基团X和功能基团L，其中所述光敏基团X含有至少一个氧杂蒽酮单元。

2.根据权利要求1所述的改性分子，其中所述改性分子的结构选自X-L和X-S-L，其中X为含有至少一个氧杂蒽酮单元的光敏基团，L为功能基团，并且S为连接链。

3.根据权利要求2所述的改性分子，其中所述分子X-S-L通过选自以下的方式合成：

（1）基团X与组成连接链S的单元S_i逐步反应，使S链长达到所需的长度，得到X-S，然后连接上基团L，得到X-S-L；

（2）组成连接链S的单元S_i之间相互反应，得到符合长度要求的连接链S，然后连接链S与基团X进行反应，得到X-S，然后连接上基团L，得到X-S-L；

（3）组成连接链S的单元S_i之间相互反应，得到符合长度要求的S链，然后连接链S与基团L进行反应，得到S-L，然后S-L再与基团X进行反应，得到X-S-L；

（4）基团L与组成连接链S的单元S_i逐步反应，使S链长达到所需的长度，得到S-L，然后连接上基团X，得到X-S-L。

4.根据权利要求2所述的改性分子，其中所述光敏基团X源自以下物质：取代或未取代的单氧杂蒽酮、取代或未取代的稠合环二氧杂蒽酮、取代或未取代的联二氧杂蒽酮和取代或未取代的低聚氧杂蒽酮。

5.根据权利要求4所述的改性分子，其中所述光敏基团X源自取代或未取代的单氧杂蒽酮。

6.根据权利要求5所述的改性分子，其中所述光敏基团X源自式I的取代单氧杂蒽酮，

其中R各自独立地表示位于相应环上的取代基，a和b分别独立地为选自0-3的整数，并且a+b≥1。

7.根据权利要求6所述的改性分子，其中所述取代基R选自热敏官能团、取代或未取代和/或被官能团间隔的链烃基、相对于单氧杂蒽酮单元的取代或未取代的独立环结构、和与单氧杂蒽酮单元上的环原子一起形成的取代或未取代的稠环结构，其中所述热敏官能团选自羧基、羟基、胺基、巯基、磺酸基、卤原子、酯基、酰卤、酰肼、氨基脲、氨基硫脲、醛、酮。

8.根据权利要求7所述的改性分子，其中所述链烃基为C_1-18链烃基。

9.根据权利要求8所述的改性分子，其中所述链烃基为C_1-8烷基或C_2-8不饱和烃基。

10.根据权利要求8所述的改性分子，其中所述链烃基为C_1-5烷基或C_2-5不饱和烃基。

11.根据权利要求7所述的改性分子，其中所述链烃基被选自以下的一个或多个官能团取代或者被选自以下的一个或多个官能团间隔：羧基、羟基、胺基、亚胺基、巯基、磺酸基、卤原子、酯官能团、酰卤、酰肼、氨基脲、氨基硫脲、醛、酮、环氧、醚、硫醚、羰基、硫酰、亚硫酰、硝基、氰基、磷酰官能团、呋喃官能团、糖官能团、酰官能团。

12.根据权利要求7所述的改性分子，其中所述环结构中的环为具有5-6个环原子的饱和环烃、不饱和环烃、饱和杂环烃、不饱和杂环烃。

13.根据权利要求12所述的改性分子，其中所述环结构中的环原子含有一个或多个选自O、N、S的杂原子。

14.根据权利要求12所述的改性分子，其中所述环结构中的环选自环戊烷、环己烷、环戊酮、环己酮、苯、环戊烯、环己烯、环己二烯、氧杂环戊烷、氧杂环己烷、哌啶、二氧杂环戊烷、二氧杂环己烷、硫杂环戊烷、硫杂环己烷、己内酰胺、己内酯、氧杂环戊酮、氧杂环己酮、氧杂环己烯、硫杂环己烯、呋喃环、吡咯环、噻吩环、吡啶、嘧啶、咪唑、苯并环己酮、苯并氧杂环己酮、氧杂环己烷并苯并环己酮。

15.根据权利要求14所述的改性分子，其中所述环结构被选自以下的一个或多个官能团取代：C_1-18链烃基、卤原子、羧基、磺酸基、酯基、硝基、酰卤、胺基、羟基、酰胺、醛、磺酸基、巯基、酮、硫酰、亚硫酰。