[发明专利]掩模对准装置及使用该装置的光刻设备

权利要求书

1.一种掩模对准装置，包括：

一照明系统，用于提供一光源照射第一标记与第二标记；

一投影物镜，用于将第一标记成像；

一第一支撑装置，用于承载所述第一标记，所述第一标记位于一掩模板上；

一第二支撑装置，用于承载所述第二标记，所述第二标记位于一基准板上；

一成像探测系统，用于探测所述第一标记的成像位置与所述第二标记位置的偏差；

其特征在于，所述成像探测系统固定于所述第二支撑装置内，且所述第二标记位于所述成像探测系统的视场范围内，所述投影物镜与所述成像探测系统共用所述照明系统。

2.如权利要求1所述的掩模对准装置，其特征在于，所述第一支撑装置和第二支撑装置均为六自由度运动装置。

3.如权利要求1所述的掩模对准装置，其特征在于，所述照明系统用于提供一紫外光源。

4.如权利要求1所述的掩模对准装置，其特征在于，所述基准板由透光材料制成。

5.如权利要求1所述的掩模对准装置，其特征在于，所述第一标记、第二标记及成像探测系统的数量一致，均为一组或多组。

6.如权利要求1所述的掩模对准装置，其特征在于，所述成像探测系统包括第一成像物镜组、第二成像物镜组以及对准探测器。

7.如权利要求6所述的掩模对准装置，其特征在于，所述成像探测系统还包括一反射面，所述反射面位于所述第一成像物镜组和第二成像物镜组之间。

8.如权利要求1所述的掩模对准装置，其特征在于，所述成像探测系统固定与所述第二支撑装置的沿X方向或沿Y方向或沿Z方向。

9.如权利要求1所述的掩模对准装置，其特征在于，所述第一标记是掩模标记，所述第二标记是工件台基准标记，所述第一支撑装置是掩模台，所述第二支撑装置是工件台。

10.一种光刻设备，其特征在于，包括一掩模对准装置，所述掩模对准装置用于掩模版与曝光对象之间的相对位置关系，所述掩模对准装置采用如权利要求1至9任一项所述的结构。