[发明专利]光学薄膜形成用炉缸内衬

权利要求书

1.一种光学薄膜形成用炉缸内衬，其特征在于，在从电子枪将电子束照射于蒸镀材料而在基板上形成光学薄膜的真空蒸镀装置的炉缸内衬中，该炉缸内衬的蒸镀材料收纳部的截面形状为浅半圆形状。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜形成用炉缸内衬，其特征在于，形成所述炉缸内衬的材料的熔点在1200℃以上，并且导热率为350W/mK以下。

3.根据权利要求1所述的光学薄膜形成用炉缸内衬，其特征在于，收纳蒸镀材料的内衬部与装入坩埚的槽部的锥形状的内衬部以同一材料一体地形成，并且在被装入于坩埚的槽部的该内衬的底面形成凹部，由此减少该坩埚的槽部与该底面及该锥形部的接触面积。

4.根据权利要求3所述的光学薄膜形成用炉缸内衬，其特征在于，具有所述蒸镀材料收纳部的内衬部与所述锥形状的内衬部被分成2部分，在使用时将两者一体地组合装入坩埚的槽部。

5.一种光学过滤器，其特征在于，使用权利要求1至4中所述的炉缸内衬而在表面上形成光学薄膜。

6.一种方法，其特征在于，使用权利要求1至4中所述的炉缸内衬而在光学基板的表面上形成光学薄膜。