[发明专利]基于光子晶体滤波片的微流控芯片荧光检测系统有效

专利信息
申请号: 201210126065.1 申请日: 2012-04-26
公开(公告)号: CN102628805A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 曹暾 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G01N21/01
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 梅洪玉
地址: 116024*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 基于 光子 晶体 滤波 微流控 芯片 荧光 检测 系统
【权利要求书】:

1.一种基于光子晶体滤波片的微流控芯片荧光检测系统,包括激发光源、微流控芯片、光纤、光电探测器、高压电源和计算机;其特征在于:所述激发光源采用光子晶体滤波片集成发光二极管(LED),所述光电探测器采用光子晶体滤波片集成光电二极管(PD),光子晶体滤波片集成LED激发光源和PD探测器结构是在衬底上先生长一层2μm的基于III-V族半导体材料的n型层,再生长一层反光层,然后生长一层基于III-V族半导体材料的有源层,最后生长一层200-300nm厚的基于III-V族半导体材料的p型层;最后通过刻蚀工艺,在p型层刻蚀出平板光子晶体滤波片图样。

2.根据权利要求1所述的基于光子晶体滤波片的微流控芯片荧光检测系统,其特征在于,所述的III-V族半导体材料层是内部结构具有单向导电性的磷化镓、镓铝砷、砷化镓、氮化镓。

3.根据权利要求1所述的基于光子晶体滤波片的微流控芯片荧光检测系统,其特征在于,所述的光子晶体的图案是矩形、方形、圆形、椭圆形;光子晶体孔宽度为20纳米至10微米,高度在60纳米至10厘米。

4.根据权利要求1所述的基于光子晶体滤波片的微流控芯片荧光检测系统,其特征在于,所述的有源层结构是n个周期的InGaN/GaN量子阱或量子点结构,其中n不小于4。

5.根据权利要求1或2或3或4所述的基于光子晶体滤波片的微流控芯片荧光检测系统,其特征在于,反光层是金属层或分布式布拉格反射镜(DBR)。

6.根据权利要求1或2或3或4所述的基于光子晶体滤波片的微流控芯片荧光检测系统,其特征在于,所述的衬底采用晶体材料、有机材料。

7.根据权利要求5所述的基于光子晶体滤波片的微流控芯片荧光检测系统,其特征在于,金属层的金属是指Al、Ag、Au、Cu。 

8.根据权利要求6所述的基于光子晶体滤波片的微流控芯片荧光检测系统,其特征在于,晶体材料包括硅、砷化镓、磷化铟、蓝宝石。 

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