[发明专利]化学气相沉积系统

权利要求书

1.一种化学气相沉积系统，其特征在于，包含：

一反应腔体；

一载盘，设置于该反应腔体中，具有一第一表面及一相对于该第一表面的第二表面，该第一表面用以承载至少一基板；

一加热器，设置于该反应腔体中并面向该第二表面，用以加热该至少一基板；及

一支撑座，用以支撑该载盘，

其中，该支撑座中设有一冷却气体通道，且该支撑座上设有至少一出气孔，该至少一出气孔位于该第二表面的同一侧，并连通该冷却气体通道以供一冷却气体流通。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，该至少一出气孔包括至少一第一出气孔及至少一第二出气孔，该至少一第一出气孔设置于邻近该加热器的该支撑座上，该至少一第二出气孔设置于相对该至少一第一出气孔远离该载盘的该支撑座上。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积系统，其特征在于，还包含至少一隔热板，且该加热器位于该隔热板及该载盘之间。

4.根据权利要求3所述的化学气相沉积系统，其特征在于，该至少一第二出气孔设置于邻近该隔热板的该支撑座上。

5.根据权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，还包含一出气孔控制模块，用以控制该至少一出气孔的开启与关闭。

6.根据权利要求5所述的化学气相沉积系统，其特征在于，该出气孔控制模块包含有：

一移动件，设于该冷却气体通道中，可于该冷却气体通道中移动而选择开启或关闭该至少一出气孔；

一支撑杆，其一端连接该移动件，用以移动该移动件；及

一驱动装置，连接该支撑杆的另一端，用以提供该支撑杆动力。

7.根据权利要求6所述的化学气相沉积系统，其特征在于，该移动件的外直径等于该冷却气体通道的内直径。

8.根据权利要求6所述的化学气相沉积系统，其特征在于，该移动件设有至少一通气孔，供该冷却气体通过。

9.根据权利要求6所述的化学气相沉积系统，其特征在于，该支撑座中设有至少一反应气体通道。

10.根据权利要求9所述的化学气相沉积系统，其特征在于，该反应气体通道贯通该支撑座的轴心，该冷却气体通道则围绕设置于该反应气体通道外侧。

11.根据权利要求10所述的化学气相沉积系统，其特征在于，该移动件为环形态样，且围绕该反应气体通道。

12.根据权利要求9所述的化学气相沉积系统，其特征在于，该反应气体通道围绕该冷却气体通道设置。