[发明专利]导电元件的制备装置及制备方法

权利要求书

1.一种导电元件的制备装置，其包括：

一初始碳纳米管膜供给单元，该初始碳纳米管膜供给单元用于连续提供一初始碳纳米管膜；

一图案化处理单元，该图案化处理单元用于在所述初始碳纳米管膜上进行图案化处理，使该初始碳纳米管膜形成至少一行通孔，且每行上至少有两个间隔设置的通孔；

一溶剂处理单元，该溶剂处理单元用于对经过图案化处理的初始碳纳米管膜进行溶剂处理，使该经过图案化处理的初始碳纳米管膜收缩形成一碳纳米管层；

一基底供给单元，该基底供给单元用于连续提供一基底；

一碾压单元，该碾压单元用于连续地将所述碳纳米管层及基底重叠设置并压合在一起，形成所述导电元件；

一收集单元，该收集单元用于收集所述导电元件。

2.如权利要求1所述的导电元件的制备装置，其特征在于，所述初始碳纳米管膜供给单元包括一碳纳米管阵列、一供给台，以及一拉伸工具；其中，该供给台用于放置该碳纳米管阵列；所述拉伸工具用于从该碳纳米管阵列上基本沿所述第一方向拉伸获得所述初始碳纳米管膜。

3.如权利要求2所述的导电元件的制备装置，其特征在于，所述图案化处理单元为激光器或电子束照射装置。

4.如权利要求3所述的导电元件的制备装置，其特征在于，所述该基底供给单元包括一卷轴及缠绕在该卷轴上的所述基底。

5.如权利要求4所述的导电元件的制备装置，其特征在于，所述碾压单元包括一对压辊，所述碳纳米管层及基底通过该一对压辊之间，使该碳纳米管层层叠压合在该基底上，形成所述导电元件。

6.如权利要求5所述的导电元件的制备装置，其特征在于，所述收集单元包括一收集轴，该收集轴用于将所述导电元件缠绕在该收集轴上，并带动所述基底及碳纳米管层运动。

7.如权利要求1所述的导电元件的制备装置，其特征在于，进一步包括一粘胶供给单元，该粘胶供给单元用于在所述基底进入所述碾压单元之前，在该基底上形成一粘胶层，该粘胶层将所述碳纳米管层固定在该基底上。

8.一种导电元件的制备方法，包括以下步骤：

提供一碳纳米管阵列、一基底、一对压辊以及一牵引单元；

从所述碳纳米管阵列中拉取一初始碳纳米管膜，该初始碳纳米管膜的一端与所述碳纳米管阵列相连，且该初始碳纳米管膜包括多个碳纳米管，该多个碳纳米管通过范德华力首尾相连且沿一第一方向延伸；

将所述初始碳纳米管膜与所述基底层叠通过所述一对压辊之间，且位于所述碳纳米管阵列与该一对压辊之间的初始碳纳米管膜悬空设置；

图案化处理所述悬空设置的初始碳纳米管膜，使该悬空设置的初始碳纳米管膜在所述第一方向上形成至少一行通孔，且每行上至少有两个间隔设置的通孔；

采用一溶剂处理所述经过图案化处理的初始碳纳米管膜，使该经过图案化处理的初始碳纳米管膜收缩，形成一碳纳米管层；以及

启动所述一对辊子及牵引单元，使该一对辊子及牵引单元转动，该一对辊子将该基底及所述碳纳米管层压合在一起形成所述导电元件，该牵引单元带动所述基底及压合在该基底上的碳纳米管层运动，从而连续形成该导电元件。

9.如权利要求8所述的导电元件的制备方法，其特征在于，所述图案化处理所述悬空设置的初始碳纳米管膜的方法为：采用激光处理或电子束射所述悬空设置的初始碳纳米管膜，使该预制碳纳米管膜形成所述多个通孔。

10.如权利要求8所述的导电元件的制备方法，其特征在于，所述通孔的形状为至少具有一对平行边的四边形、椭圆形、三角形或圆形。

11.如权利要求8所述的导电元件的制备方法，其特征在于，所述通孔的形状为长方形或菱形。

12.如权利要求8所述的导电元件的制备方法，其特征在于，相邻的通孔之间的间距大于等于0.1毫米。

13.如权利要求8所述的导电元件的制备方法，其特征在于，图案化处理所述悬空设置的初始碳纳米管膜的步骤为：在该悬空设置的初始碳纳米管膜上形成多个通孔，该多个通孔在该悬空设置的初始碳纳米管膜中沿所述第一方向成多行排列。

14.如权利要求13所述的导电元件的制备方法，其特征在于，所述多个通孔沿一第二方向排列成多列，且位于同一排上的通孔沿第二方向间隔设置，该第二方向与所述第一方向相交设置。