[发明专利]微孔薄膜微流控芯片及其制备方法与应用有效
申请号: | 201210122279.1 | 申请日: | 2012-04-24 |
公开(公告)号: | CN103372469A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 齐莉;杨俊;马会民 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00;G01N33/48;G01N21/78 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微孔 薄膜 微流控 芯片 及其 制备 方法 应用 | ||
1.以微孔薄膜为载体制备得到的微流控芯片。
2.根据权利要求1所述的微流控芯片,其特征在于:构成所述微孔薄膜的材料选自尼龙、纤维素和纤维素酯中的至少一种;所述载体的厚度为50-200μm,优选100μm;孔隙率为40-80%,优选70%;孔径为0.2-1.0μm,优选0.45μm。
3.根据权利要求1或2所述的微流控芯片,其特征在于:所述微流控芯片是按照包括权利要求4-6任一所述方法制备而得。
4.一种制备权利要求1或2任一所述微流控芯片的方法,包括如下步骤:
1)以所述微孔薄膜为载体,将其浸润光刻胶、静置、烘干后得到光刻胶薄膜;
2)将掩膜覆盖在步骤1)所得光刻胶薄膜上进行曝光,曝光完毕溶解所述光刻胶,得到微流控芯片通道,再进行等离子处理后,得到所述微流控芯片。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于:所述步骤1)中,所述光刻胶选自正型紫外光刻胶和负型紫外光刻胶中的至少一种;
所述光刻胶薄膜的厚度为100-300μm,优选150μm。
6.根据权利要求4或5所述的方法,其特征在于:步骤1)浸润步骤中,时间为2-5分钟,优选3分钟;
所述静置步骤中,时间为5-15分钟,优选10分钟;
所述烘干步骤中,温度为60-85℃,优选80℃,时间为10-25分钟,优选15分钟;
步骤2)所述曝光步骤中,时间为5-12分钟,优选10分钟;
所述溶解步骤中,所用试剂为氢氧化钠水溶液;所述氢氧化钠水溶液的质量百分浓度不大于0.7%,优选0.5%;时间为2-4分钟,优选3分钟;
所述等离子处理步骤中,功率为0-150w,优选100w,真空度为6.67×10-1Pa,时间为30秒-2分钟,优选1分钟。
7.权利要求1-3任一所述微流控芯片在生化检测中的应用。
8.一种用于生化检测的试剂盒,其特征在于:所述试剂盒包括权利要求1-3任一所述微流控芯片。
9.根据权利要求7所述的应用或权利要求8所述的试剂盒,其特征在于:所述生化检测均为检测糖类或蛋白质。
10.根据权利要求9所述的应用或试剂盒,其特征在于:所述糖类为葡萄糖。
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