[发明专利]光记录介质无效
申请号: | 201210120616.3 | 申请日: | 2009-02-24 |
公开(公告)号: | CN102646430A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 伊藤英一;尾留川正博 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/09 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 | ||
1.一种通过使用SIL光学系统可进行光记录再生的光记录介质,其特征在于,
所述光记录介质具有:
基板;
保护层;和
在所述基板和所述保护层之间所形成的至少一个信号层,
所述信号层的距所述SIL的底面的距离在0.9μm以上且38μm以下的范围,
所述信号层具有引入区域,
在λ设为来自所述SIL的光的波长、D设为所述SIL的底面的直径或最长轴径时,所述引入区域中的所述光记录介质的表面的倾斜度θ满足θ<arcsin(λ/D),
并且,所述引入区域在所述信号层的一周遍布,且在半径方向具有20μm以上的宽度。
2.根据权利要求1所述的光记录介质,其特征在于,
所述信号层在距所述SIL的底面的距离为3.3μm以上且21μm以下的范围。
3.根据权利要求1所述的光记录介质,其特征在于,
所述表面的倾斜度θ满足θ<arcsin(λ/2D)。
4.根据权利要求1所述的光记录介质,其特征在于,
所述引入区域被配置于在半径16mm以上且43mm以下的范围的位置。
5.根据权利要求1所述的光记录介质,其特征在于,
所述引入区域被配置于在半径17mm以上且25mm以下的范围的位置。
6.根据权利要求1所述的光记录介质,其特征在于,
所述基板和所述保护层的折射率的差为0.35以上。
7.根据权利要求1所述的光记录介质,其特征在于,还具有多个所述信号层和在所述信号层间所形成的中间层,并且,所述基板和所述中间层的折射率的差为0.35以上。
8.根据权利要求6或7所述的光记录介质,其特征在于,所述折射率的差为0.45以上。
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