[发明专利]具有密封结构的传感器器件有效

专利信息
申请号: 201210118992.9 申请日: 2012-04-20
公开(公告)号: CN102749159B 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 史蒂芬·R·胡珀;德怀特·L·丹尼尔斯;詹姆斯·D·麦克唐纳;威廉·G·麦克唐纳;春林·C·夏 申请(专利权)人: 飞思卡尔半导体公司
主分类号: G01L1/18 分类号: G01L1/18
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李宝泉;周亚荣
地址: 美国,*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 密封 结构 传感器 器件
【权利要求书】:

1.一种传感器器件,包括:

传感器结构,所述传感器结构包括具有在其上形成的感测布置的第一部分;

第二结构;以及

密封结构,所述密封结构被插入在所述传感器结构和所述第二结构之间,所述密封结构包围所述传感器结构的所述第一部分以建立在所述第一部分的第一侧上的固定基准压力,其中所述第一部分的第二侧暴露于环境压力。

2.根据权利要求1所述的传感器器件,其中,所述密封结构包括金属材料,所述金属材料被键合到所述传感器结构和所述第二结构,以在所述传感器结构和所述第二结构之间提供气密密封。

3.根据权利要求2所述的传感器器件,所述第二结构具有平坦表面,其中所述金属材料被键合到所述平坦表面。

4.根据权利要求1所述的传感器器件,其中,所述密封结构限定所述第一部分的所述第一侧上的真空腔室。

5.根据权利要求1所述的传感器器件,其中,所述固定基准压力是在真空下。

6.根据权利要求1所述的传感器器件,进一步包括:导电互连,所述导电互连被布置在所述传感器结构和所述第二结构之间,其中所述密封结构和所述导电互连每一个包括键合到所述传感器结构和所述第二结构的金属材料。

7.根据权利要求6所述的传感器器件,其中,所述导电互连被电连接到所述感测布置。

8.根据权利要求1所述的传感器器件,进一步包括:控制电路,所述控制电路用于基于来自所述感测布置的电信号来确定指示所述环境压力的压力度量,其中所述第二结构包括具有在其上形成的所述控制电路的集成电路管芯。

9.根据权利要求8所述的传感器器件,进一步包括:导电互连,所述导电互连被布置在所述传感器结构和所述集成电路管芯之间,以在所述控制电路和所述感测布置之间提供电连接。

10.根据权利要求1所述的传感器器件,其中,所述第一部分响应于在所述环境压力和所述固定基准压力之间的差异而偏离。

11.根据权利要求1所述的传感器器件,其中:

所述传感器结构包括集成电路管芯;

所述第一部分包括所述集成电路管芯的隔膜区域;

所述感测布置被形成在所述隔膜区域的所述第一侧上;并且

所述密封结构限定所述第一部分的第一侧上的真空腔室。

12.一种压力传感器器件,包括:

压力传感器结构,所述压力传感器结构包括具有在所述压力传感器结构的第一侧上形成的感测布置的隔膜区域;

金属材料,所述金属材料环绕所述隔膜区域,所述金属材料被键合到所述压力传感器结构的所述第一侧;以及

基板,所述基板具有平坦表面,其中,所述金属材料被键合到所述基板的所述平坦表面,以建立具有固定基准压力的腔室。

13.根据权利要求12所述的压力传感器器件,其中:

所述腔室被布置在所述隔膜区域的所述第一侧上;并且

所述隔膜区域的第二侧暴露于环境压力。

14.根据权利要求13所述的压力传感器器件,其中,所述基板包括具有在其上形成的专用集成电路的半导体基板,所述专用集成电路被耦合到所述感测布置,以基于来自所述感测布置的电信号来确定指示所述环境压力的压力度量。

15.根据权利要求14所述的压力传感器器件,其中:

所述感测布置包括多个压阻元件,所述多个压阻元件形成在所述隔膜区域上,所述隔膜区域的偏离影响所述压阻元件的电阻;并且

所述多个压阻元件的电阻影响所述电信号。

16.根据权利要求13所述的压力传感器器件,进一步包括:保护材料,所述保护材料形成在所述隔膜区域的第二侧上。

17.根据权利要求12所述的压力传感器器件,进一步包括:模制化合物,所述模制化合物被布置在所述压力传感器结构和所述基板之间,所述模制化合物包围所述金属材料。

18.根据权利要求12所述的压力传感器器件,其中,所述固定基准压力是在真空下。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于飞思卡尔半导体公司,未经飞思卡尔半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210118992.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top