[发明专利]一种MASK表面附着有机物的清除方法

权利要求书

1.一种MASK表面附着有机物的清除方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1)：将使用过的MASK放入第一真空箱中，该MASK上附着有若干种有机物；将MASK在第一真空箱中真空加热蒸发所述若干种有机物；

步骤2)：覆盖MASK的若干种有机物蒸发完毕，将MASK移入第二真空箱中，进行真空空烧，使附着在MASK表面的杂质分解；真空空烧的温度大于将MASK表面的杂质分解的温度，且小于使MASK发生形变或MASK发生形变后不可恢复的温度；

步骤3)：将经过步骤2)处理的MASK冷却至室温，然后用纯水清洗后风干即可。

2.根据权利要求1所述的一种MASK表面附着有机物的清除方法，其特征在于，步骤1)中真空加热蒸发所述若干种有机物时，蒸发每一种有机物时的加热温度大于该有机物的升华温度，小于该有机物的玻璃化温度。

3.根据权利要求1或2所述的一种MASK表面附着有机物的清除方法，其特征在于，步骤1)中按照有机物升华温度从低到高的顺序依次真空加热蒸发所述若干种有机物。

4.根据权利要求1所述的一种MASK表面附着有机物的清除方法，其特征在于，步骤2)中真空空烧的温度为500～600度。

5.根据权利要求1所述的一种MASK表面附着有机物的清除方法，其特征在于，MASK的材质为SUS或INVAR合金。

6.根据权利要求1所述的一种MASK表面附着有机物的清除方法，其特征在于，步骤1)中采用电阻加热或涡流加热方式加热。

7.根据权利要求1所述的一种MASK表面附着有机物的清除方法，其特征在于，步骤3)中MASK自然冷却或通入惰性气体、氮气辅助冷却至室温。