[发明专利]光学加工系统和方法

权利要求书

1.一种光学加工系统，其特征在于，包括：

加工平台，实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动；

空间光调制器，产生设计图形；

投影光学系统，包括第一透镜组、第二透镜组和滤波器，所述滤波器设于所述第一透镜组和第二透镜组之间且位于所述第一透镜组的频谱面上，所述设计图形通过所述投影光学系统以一定的放大倍率投影至位于加工平台上的待加工物表面上，并实现曝光。

2.根据权利要求1所述的光学加工系统，其特征在于，所述空间光调制器由多个图块构成，每个图块用以显示一定周期和占空比的图像，所述图像形成所述设计图形的一部分。

3.根据权利要求2所述的光学加工系统，其特征在于，所述每个图块具有相同的像素数。

4.根据权利要求2所述的光学加工系统，其特征在于，所述每个图块显示图像的周期相同。

5.根据权利要求2所述的光学加工系统，其特征在于，所述图像为离散化的黑白图像。

6.根据权利要求1所述的光学加工系统，其特征在于，所述滤波器为光阑。

7.一种光学加工方法，使用权利要求2所述的光学加工系统，其特征在于，包括步骤：

(1)、加工平台沿第二运动轴进行扫描；

(2)、空间光调制器产生设计图形；

(3)、所述设计图形被所述滤波器滤波后投影至待加工物表面上；

(4)、第二运动轴运动到达预定曝光位置，触发曝光脉冲，在待加工物表面上实现曝光。