[发明专利]上电复位电路有效

专利信息
申请号: 201210112743.9 申请日: 2012-04-17
公开(公告)号: CN103378830A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 李鸿雁;李玲 申请(专利权)人: 国民技术股份有限公司
主分类号: H03K17/22 分类号: H03K17/22
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 薛祥辉
地址: 518057 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 复位 电路
【权利要求书】:

1.一种上电复位电路,包括带隙基准电路和比较电路,所述带隙基准电路包括第一支路、第二支路和运放电路;所述第一支路包括第一PMOS管、第一偏置电流模块和充电模块,所述第一PMOS管的源极与VDD连接,漏极与所述第一偏置电流模块的输入端连接,所述第一偏置电流模块的输出端接地,所述充电模块与所述第一偏置电流模块并联,所述第一PMOS管的漏极还与所述运放电路的第一输入端和所述比较电路的第一输入端连接,所述运放电路的输出端与所述第一MOS管的栅极连接;所述第二支路包括第二POMS管、第二偏置电流模块,所述第二PMOS管的源极与VDD连接,漏极与所述第二偏置电流模块的输入端连接,所述第二偏置电流模块的输出端接地;所述第二PMOS管的漏极还与所述运放电路的第二输入端和所述比较电路的第二输入端连接,所述运放电路的输出端还与所述第二PMOS管的栅极连接;所述运放电路用于根据所述第一支路和所述第二支路输入的电压值调整所述第一PMOS管和所述第二PMOS管的栅极电压;所述比较电路用于比较所述第一支路和所述第二支路输入的电压值,根据比较结果判断是否通过输出端输出上电复位信号。

2.如权利要求1所述的上电复位电路,其特征在于,所述第一偏置电流模块包括第一NMOS管,所述第一PMOS管的漏极与所述第一NMOS管的漏极和栅极连接,所述第一NMOS管的源极接地;所述第二偏置电流模块包括第二NMOS管和电阻R,所述第二PMOS管的漏极与所述第二NMOS管的漏极连接,所述第二NMOS管的源极通过所述电阻接地,所述第二NMOS管的栅极与所述第一PMOS管的漏极连接。

3.如权利要求1所述的上电复位电路,其特征在于,所述第一偏置电流模块包括第一NPN型三极管,所述第一PMOS管的漏极与所述第一NPN型三极管的集电极和基极连接,所述第一NPN型三极管的发射极接地;所述第二偏置电流模块包括第二NPN型三极管和电阻R,所述第二PMOS管的漏极与所述电阻R的一端连接,所述电阻R的另一端与所述第二NPN型三极管的集电极和基极连接,所述第二NPN型三极管的发射极接地。

4.如权利要求1所述的上电复位电路,其特征在于,所述第一偏置电流模块包括第一PNP型三极管,所述第一PMOS管的漏极与所述第一PNP型三极管的发射极连接,所述第一PNP型三极管的集电极和基极接地;所述第二偏置电流模块包括第二PNP型三极管和电阻R,所述第二PMOS管的漏极与所述电阻R的一端连接,所述电阻R的另一端与所述第二PNP型三极管的发射极连接,所述第二NPN型三极管的集电极和基极接地。

5.如权利要求1-4任一项所述的上电复位电路,其特征在于,所述充电模块包括电容,所述电容的两端分别与所述第一PMOS管的漏极和地连接。

6.如权利要求1-4任一项所述的上电复位电路,其特征在于,还包括延迟电路,所述延迟电路的输入端与所述比较电路的输出端连接,用于将所述比较电路输出的上电复位信号进行延迟处理后输出。

7.如权利要求1-4任一项所述的上电复位电路,其特征在于,所述运放电路根据所述第一支路和所述第二支路输入的电压值调整所述第一PMOS管和所述第二PMOS管的栅极电压包括:

所述运放电路比较所述第一支路输入的电压值是否小于所述第二支路输入的电压值,如是,所述运放电路输出低电平;如果所述运放电路比较所述第一支路输入的电压值是否等于所述第二支路输入的电压值,输出VDD与VSS之间的中间电平。

8.如权利要求1-4任一项所述的上电复位电路,其特征在于,所述比较电路根据所述比较结果判断是否通过输出端输出上电复位信号包括:

所述比较电路判断所述第一支路输入的电压值与所述第二支路输入的电压值是否相等,如是,则输出上电复位信号。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国民技术股份有限公司,未经国民技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210112743.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top