[发明专利]化学品和特种气体监控及分析系统及方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，具体地说，本发明涉及一种化学品和特种气体监控及分析系统、以及化学品和特种气体监控及分析方法，更具体地说，所述化学品和特种气体监控及分析系统以及化学品和特种气体监控及分析方法尤其适合于监控及分析半导体晶圆的制造工艺过程中用到的化学品和/或特种气体。

背景技术

化学品和特种气体在半导体晶圆的制造工艺过程中是必不可少。由于化学品和特种气体的化学性能以及它们在半导体制造过程中的作用的原因，保持化学品和特种气体的稳定供应，对于保证半导体工厂的正常运营有着非常重要的意义。

其中，特种气体是指那些在特定领域中应用的，对气体有特殊要求的纯气、高纯气、或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。

目前，在半导体晶圆的制造工艺过程中，化学品和特种气体的供应管理缺乏系统支持；而且，化学品和特种气体的供应数据没有进行集成统一的管理，管理人员无法监控化学品和特种气体的供应数据，并且缺失针对化学品和特种气体的供应数据的有效分析。

因此，希望提供一种能够为化学品和特种气体的供应情况提供系统支持、并且能够对化学品和特种气体的供应情况进行监控和分析的化学品和特种气体监控及分析系统和化学品和特种气体监控及分析方法。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在上述缺陷，提供一种能够为化学品和特种气体的供应情况提供系统支持、并且能够对化学品和特种气体的供应情况进行监控及分析的化学品和特种气体监控及分析系统和化学品和特种气体监控及分析方法。

根据本发明的第一方面，提供了一种化学品和特种气体监控及分析系统，其包括：监控服务器、数据库服务器、分析服务器以及客户端；其中，监控服务器与数据库服务器相连，数据库服务器、分析服务器和客户端相互连接；所述监控服务器用于对化学品和特种气体的供应数据进行监控，并将监控获取的数据写入所述的数据库服务器中；所述数据库服务器用于存储从所述监控服务器所采集的化学品和特种气体的供应数据；所述分析服务器用于从数据库服务器中提取数据进行统计分析；所述客户端用于查看所连接的数据库服务器中的实时化学品和特种气体的供应数据，并可查看所连接的分析服务器中根据化学品和特种气体的供应历史数据统计分析所得的报表。

优选地，所述化学品和特种气体监控及分析系统监控的供应数据包括：化学品库存量、化学品使用量、特种气体库存量、特种气体使用量。

优选地，所述化学品和特种气体监控系统分析的指标包括：化学品历史平均使用量、化学品预测使用时间、特种气体历史平均使用量、特种气体预测使用时间。

根据本发明的第二方面，提供了一种化学品和特种气体监控及分析方法，其包括：利用监控服务器监控化学品和特种气体的供应数据；采集所述监控服务器所监控的供应数据以发送至数据库服务器进行存储；根据不同的分析指标，利用分析服务器从所述数据库服务器提取相应的数据进行分析；通过客户端来连接数据库服务器以监控供应数据，并且通过客户端来连接分析服务器以查看分析指标。

优选地，所述化学品和特种气体监控及分析方法监控的供应数据包括：化学品库存量、化学品使用量、特种气体库存量、特种气体使用量。

优选地，所述化学品和特种气体监控方法分析的指标包括：化学品历史平均使用量、化学品预测使用时间、特种气体历史平均使用量、特种气体预测使用时间。

与现有技术相比，本发明提出的一种可用于半导体晶圆制造的化学品和特种气体的监控分析的系统和方法，通过监控服务器监控供应数据，并将数据发送至数据库服务器，分析服务器根据分析指标提取数据进行分析，供应数据和分析指标可通过客户端进行查看。由此，本发明具有为化学品和特种气体的供应情况提供系统支持、对化学品和特种气体的供应情况进行监控和分析的优点。

附图说明

结合附图，并通过参考下面的详细描述，将会更容易地对本发明有更完整的理解并且更容易地理解其伴随的优点和特征，其中：

图1是根据本发明第一实施例的化学品和特种气体监控及分析系统的系统结构图。

图2是根据本发明第二实施例的化学品和特种气体监控及分析方法的流程图。

需要说明的是，附图用于说明本发明，而非限制本发明。注意，表示结构的附图可能并非按比例绘制。并且，附图中，相同或者类似的元件标有相同或者类似的标号。

具体实施方式

为了使本发明的内容更加清楚和易懂，下面结合具体实施例和附图对本发明的内容进行详细描述。

<第一实施例>