[发明专利]掩模与工件的对齐方法有效

专利信息
申请号: 201210109339.6 申请日: 2012-04-13
公开(公告)号: CN102736445A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 三盐亮一;井上丰治 申请(专利权)人: 优志旺电机株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 胡建新
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 工件 对齐 方法
【权利要求书】:

1.一种掩模与工件的对齐方法,将第一掩模的图案放大投影或缩小投影到大小与该掩模不同的工件上,对齐上述掩模上所形成的对准标记的投影图像与工件上所形成的对准标记图像来在工件上曝光上述掩模图案,上述掩模与工件的对齐方法的特征在于,

预先存储在下一工序中与上述工件重叠使用的预先确定的大小的第二掩模的对准标记的位置,

在进行第一掩模与工件的对齐时,调整将上述第一掩模的图案放大投影或缩小投影到上述工件上的倍率,以使第一偏移量与第二偏移量的总和最小的方式对齐上述第一掩模与上述工件,其中,上述第一偏移量为上述第一掩模上所形成的对准标记图像在工件上的投影位置与工件上所形成的对准标记之间的偏移量,上述第二偏移量为第一掩模上所形成的对准标记在工件上的投影位置与上述存储的第二掩模上所形成的对准标记的位置之间的偏移量。

2.根据权利要求1所述的掩模与工件的对齐方法,其特征在于,

上述下一工序中的作业是在上述工件上重叠上述第二掩模并向该掩模上所形成的开口注入焊锡膏而在工件上搭载焊锡的焊锡印刷作业、或将上述第二掩模上所形成的图案转印到工件上的接触式曝光或接近式曝光。

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