[发明专利]一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜有效

专利信息
申请号: 201210107914.9 申请日: 2012-04-13
公开(公告)号: CN102621822A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 罗先刚;赵泽宇;王彦钦;冯沁;王长涛;罗云飞;陶兴;黄成;杨磊磊;姚纳 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B3/00
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 成金玉
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 曲面 平面 分辨 缩小 成像 光刻 透镜
【权利要求书】:

1.一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜,其特征在于:该透镜从下至上依次包括以下组成部分:

一可透光的平面多层膜结构,用于将曲面多层膜结构缩小所成的像,等比地投到平整的像面上;

一可缩小成像的曲面多层膜结构,用于实现图形的缩小倍率超分辨成像;

一金属掩膜结构,作为缩小成像光刻的掩模图形;

一粘连剂层,用于将平面多层膜结构、曲面多层膜结构、金属掩模结构固定在基底材料上;

一基底材料,用于附着和支撑该缩小倍率超分辨成像透镜结构。

2.根据权利要求1所述的一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜,其特征在于:所述平面多层膜结构由金属Ag层与介质SiO2层交替沉积组成,共需要10~50层;光可以在平面多层膜结构中透过,从而实现图形的传递。

3.根据权利要求1所述的一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜,其特征在于:所述曲面多层膜结构也是由金属Ag层与介质SiO2层组成,共需要10-50层;由于光波在曲面多层膜结构中传播时会发生光场的尺寸变化,从而引起像的尺寸变化,最终实现图形的缩放成像,缩放倍率由曲面多层膜结构的外径与内径比例决定。

4.根据权利要求1所述的一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜,其特征在于:所述的金属掩膜结构为金属铬膜,在铬膜上开孔,形成最终的铬掩膜。

5.根据权利要求1所述的一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜,其特征在于:所述粘连剂可以是紫外固化胶或PMMA。

6.根据权利要求1所述的一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜,其特征在于:所述基底材料为石英片或玻璃片。

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