[发明专利]一种基于机薄膜晶体管甲烷气体传感器及其制备方法无效
申请号: | 201210107841.3 | 申请日: | 2012-04-13 |
公开(公告)号: | CN102636552A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 钟建;于军胜;张霖;于欣格 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G01N27/60 | 分类号: | G01N27/60 |
代理公司: | 成都华典专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人: | 徐丰;杨保刚 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 薄膜晶体管 甲烷 气体 传感器 及其 制备 方法 | ||
1.一种基于机薄膜晶体管甲烷气体传感器,包括玻璃衬底(1)、栅电极(2)、栅极绝缘层(3)、漏电极(4)源电极(5)、具有气体探测功能的有机层(6)组成,其特征在于:栅极绝缘层(3)位于刻蚀有栅极(2)的衬底(1)上,源电极(5)和漏电极(6)位于栅极绝缘层(3)之上,有机层(6)连接源电极(5)和漏电极(4)。
2.根据权利要求1所述的一种基于机薄膜晶体管甲烷气体传感器,其特征在于:所述有机层(6)由并三苯、并四苯、并五苯、6,13-二三异丙酯硅基乙炔并五苯、3,4-苯并芘、六苯并苯、6,13-五并苯醌中的至少一种构成。
3.根据权利要求1~2任一项所述的基于有机薄膜晶体管的甲烷气体传感器,其特征在于:所述有机层(6)的厚度为5-500 nm。
4.根据权利要求1所述的一种基于机薄膜晶体管甲烷气体传感器,其特征在于:所述衬底(1)由硅片、玻璃、聚合物薄膜或金属箔制成。
5.根据权利要求1所述的一种基于机薄膜晶体管甲烷气体传感器,其特征在于:所述栅电极(2)、源电极(5)和漏电极(4)由低电阻的金属及其合金材料、金属氧化物或导电复合材料制成,源电极(5)和漏电极(4)的厚度为10-300 nm。
6.根据权利要求1所述的一种基于机薄膜晶体管甲烷气体传感器,其特征在于:所述栅极绝缘层(3)的厚度为20-2000 nm。
7.一种基于机薄膜晶体管甲烷气体传感器的制备方法,包括以下步骤:
①先对衬底(1)进行彻底的清洗,清洗后干燥;
②在衬底表面制备栅电极(2);
③在栅电极(2)上面制备栅极绝缘层(3)并对绝缘层进行处理;
④在所述栅极绝缘层(3)上制备源电极(5)和漏电极(4);
⑤在源电极(5)和漏电极(4)之间制备用于探测甲烷气体的有机层(6)。
8.根据权利要求8所述的一种基于机薄膜晶体管甲烷气体传感器的制备方法,其特征在于:所述栅电极(2)、源电极(5)、漏电极(4)通过真空热蒸镀、磁控溅射、等离子体增强的化学气相沉积、丝网印刷、打印或旋涂中的任一方法制备。
9.根据权利要求8所述的一种基于机薄膜晶体管甲烷气体传感器的制备方法,其特征在于:所述栅极绝缘层(3)通过等离子体增强的化学气相沉积、热氧化、旋涂或者真空蒸镀中的任一方法制备。
10. 根据权利要求8所述的一种基于机薄膜晶体管甲烷气体传感器的制备方法,其特征在于:所述有机层(6)通过等离子体增强的化学气相沉积、热氧化、旋涂、真空蒸镀、旋涂、滴膜、压印、印刷或气喷中的任一方法制备。
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