[发明专利]一种改善硅块磨面质量的方法

权利要求书

1.一种改善硅块磨面质量的方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)配制氧化性溶液；

(2)在待研磨硅块的磨面上喷洒(1)中所述氧化性溶液，进行研磨。

2.如权利要求1所述的改善硅块磨面质量的方法，其特征在于，步骤(1)中所述氧化性溶液为双氧水溶液和/或碘酒。

3.如权利要求1所述的改善硅块磨面质量的方法，其特征在于，所述氧化性溶液为任意质量百分比浓度。

4.如权利要求3所述的改善硅块磨面质量的方法，其特征在于，所述氧化性溶液的质量百分比浓度为2％～25％。

5.如权利要求1所述的改善硅块磨面质量的方法，其特征在于，步骤(2)中所述研磨包括粗磨和精磨两个阶段。

6.如权利要求5所述的改善硅块磨面质量的方法，其特征在于，所述粗磨采用砂轮磨头。

7.如权利要求5所述的改善硅块磨面质量的方法，其特征在于，所述精磨采用毛刷磨头或砂轮磨头。

8.如权利要求1～4任一项所述的改善硅块磨面质量的方法，其特征在于，所述氧化性溶液装入磨面机上原用于供应自来水的容器中，并通过所述磨面机的管道供应到所述磨面机的工作台端。

9.如权利要求1～4任一项所述的改善硅块磨面质量的方法，其特征在于，所述氧化性溶液通过装入容器后，再用泵供应到磨面机的工作台端。