[发明专利]一类近红外氟硼二吡咯荧光染料及其合成方法

权利要求书

1.一类近红外氟硼二吡咯荧光染料，其特征在于：所述染料的结构通式为I、I′：

通式中：R₄为H、CH₃、芳基；

X为I、Br、Cl、CF₃SO₃、OR₈、OR₈、SR₈、NR₈R₉；

Y、Z为相同或不同的H、-CHCH-、-CR₈CR₉-、C_1-12的烷基、环烷基、苯基、Cl、Br、I、OR₈、NR₈R₉、CN、(CH＝CH₂)(C₆H₄)R₈、(CH₂)_mO(CH₂)_nH、(CH₂)_nCOOM、(CH₂)_mCOM或(CH₂)_mSO₃M；

R₁、R₂、R₃、R₅、R₆、R₇为H、C_1-12的烷基、环烷基、苯基、萘基、F、Cl、Br、I、OR₈、NR₈R₉、CN、(CH＝CH₂)(C₆H₄)R₈、(CH₂)_mO(CH₂)_nH、(CH₂)_nCOOM、(CH₂)_mCOM或(CH₂)_mSO₃M；

R₈、R₉为相同或不同的H、C_1-12直链或者支链烷基、C_1-12环烷基、(CH₂)_mO(CH₂)_nH、(CH₂)mCOOM、(CH₂)mCOM或(CH₂)mSO₃M；n、m＝0-15；M＝H、Li、Na、K、NH₄。

2.根据权利要求1所述的一类近红外氟硼二吡咯荧光染料，其特征在于：所述染料的结构通式为：

R₄为H时，

R₁、R₂、R₄、R₄、R₅、R₆、R₇均为H；

R₁、R₃、R₅、R₇为CH₃，R₂、R₄、R₆为H；

R₁、R₃、R₅、R₇为CH₃，R₂、R₄、R₆为CH₂CH₃。