[发明专利]一种盐霉素分子印迹聚合物及其制备方法

权利要求书

1.一种盐霉素分子印迹聚合物，其特征在于，所述聚合物具有模板分子盐霉素的印迹位点，其由下述摩尔份单体组分按如下步骤制得： 

1) 将盐霉素、功能单体、交联剂、引发剂与致孔剂均匀混合，制成混合液，其摩尔比为盐霉素∶功能单体：交联剂∶引发剂＝1∶（3-10）：（15-50）∶（0.9-1.6）；

2) 所述混合液经超声脱气5-10min，通氮气5-10min除去氧分子后密闭，然后采用热引发方式进行原位聚合，热引发条件为45-75℃，反应12-36小时，得到含有盐霉素的高分子聚合物；

3) 将步骤2)所得聚合物研磨成粉末状，用15-45％乙酸和甲醇混合溶液洗涤去除模板分子，再用甲醇提取除去乙酸，真空干燥，得到盐霉素分子印迹聚合物， 

其中，所述功能单体为甲基丙烯酸羟乙基酯羟乙基酯或亚甲基丁二酸，所述交联剂为N，N-1，4-亚苯基二丙烯酰胺或二乙烯基苯，所述引发剂为偶氮二异庚腈或过氧化苯酰，所述致孔剂为乙腈或氯仿。

2.根据权利要求1所述的盐霉素分子印迹聚合物，其特征在于，所述功能单体优选甲基丙烯酸羟乙基酯。

3.根据权利要求1所述的盐霉素分子印迹聚合物，其特征在于，所述交联剂优选N，N-1，4-亚苯基二丙烯酰胺酯。

4.根据权利要求1所述的盐霉素分子印迹聚合物，其特征在于，所述引发剂优选偶氮二异庚腈。

5.根据权利要求1所述的盐霉素分子印迹聚合物，其特征在于，所述致孔剂优选乙腈。

6.一种盐霉素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述聚合物具有模板分子盐霉素的印迹位点，其由下述摩尔份单体组分按如下步骤制得：

1) 将盐霉素、功能单体、交联剂、引发剂与致孔剂均匀混合，制成混合液，其摩尔比为盐霉素∶功能单体：交联剂∶引发剂＝1∶（3-10）：（15-50）∶（0.9-1.6）；

2) 所述混合液经超声脱气5-10min，通氮气5-10min除去氧分子后密闭，然后采用热引发方式进行原位聚合，热引发条件为45-75℃，反应12-36小时，得到含有盐霉素的高分子聚合物；

3) 将步骤2)所得聚合物研磨成粉末状，用15-45％乙酸和甲醇混合溶液洗涤去除模板分子，再用甲醇提取除去乙酸，真空干燥，得到盐霉素分子印迹聚合物，

其中，所述功能单体为甲基丙烯酸羟乙基酯羟乙基酯或亚甲基丁二酸，所述交联剂为N，N-1，4-亚苯基二丙烯酰胺或二乙烯基苯，所述引发剂为偶氮二异庚腈或过氧化苯酰，所述致孔剂为乙腈或氯仿。

7.根据权利要求6所述的盐霉素分子印迹聚合物，其特征在于，所述功能单体优选甲基丙烯酸羟乙基酯。

8.根据权利要求6所述的盐霉素分子印迹聚合物，其特征在于，所述交联剂优选N，N-1，4-亚苯基二丙烯酰胺酯。

9.根据权利要求6所述的盐霉素分子印迹聚合物，其特征在于，所述引发剂优选偶氮二异庚腈。

10.根据权利要求6所述的盐霉素分子印迹聚合物，其特征在于，所述致孔剂优选乙腈。