[发明专利]触控显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种触控显示装置，其特征在于，该触控显示装置包含：

一第一透明电极层；

一第一透明基材，位于该第一透明电极层上；

一第一偏光板，位于该第一透明基材上，使得具有一第一方向的一偏振光穿透该第一偏光板；

一彩色滤光层；

一液晶层，具有复数个液晶分子，其中这些液晶分子呈一排列方向，该液晶层位于该第一透明电极层与该彩色滤光层之间；

一第二透明电极层，位于该彩色滤光层上，藉由该第一透明电极层与该第二透明电极层的电压变化，改变该液晶层的这些液晶分子的该排列方向；

一第二透明基材，位于该第二透明电极层上；

一第三透明电极层，位于该第二透明基材上，该第三透明电极层藉由一雷射蚀刻处理以成为一触控电路层；

一滤光层，该滤光层位于该第二透明电极层与该第三透明电极层之间，该滤光层隔绝该雷射蚀刻处理中的一紫外光穿透到该第二透明电极层；以及

一第二偏光板，位于该第三透明电极层上，使得具有一第二方向的该偏振光穿透该第二偏光板。

2.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该第一透明电极层、该第二透明电极层与该第三透明电极层的材质为透明导电氧化物。

3.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该第二透明电极层与该第三透明电极层的材质为铟锡氧化物，且该第二透明电极层与该第三透明电极层的片电阻为20到600欧姆/单位面积之间、厚度为5到150纳米之间以及透光率为80％到95％之间。

4.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该第二透明电极层与该第三透明电极层的材质为氟锡氧化物，且该第二透明电极层与该第三透明电极层的片电阻为10到600欧姆/单位面积之间、厚度为100到2000纳米之间以及透光率为80％到92％之间。

5.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该第一透明基材与该第二透明基材的厚度为0.2到0.4毫米之间。

6.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该滤光层位于该第二透明基材与该第三透明电极层之间。

7.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该滤光层的材质为氧化硅。

8.一种触控显示装置的制造方法，其特征在于，至少包含：

提供一显示装置，该显示装置具有一液晶层；形成一第一透明电极层于一第一透明基材上；依序形成一第二透明电极层与一彩色滤光层于一第二透明基材上，该液晶层介于该第一透明电极层与该彩色滤光层之间；

形成一滤光层在该显示装置的该第二透明基材上，其中该滤光层隔绝一紫外光穿透到该显示装置的该第二透明电极层；

形成一第三透明电极层在该滤光层上；

蚀刻该第三透明电极层以形成一触控电路；以及

分别贴附一第一偏光板与一第二偏光板在该显示装置的该第一透明基材上与该第三透明电极层上。

9.如权利要求8所述的触控显示装置的制造方法，其特征在于，蚀刻该第三透明电极层的方法为雷射蚀刻。

10.如权利要求8所述的触控显示装置的制造方法，其特征在于，在提供该显示装置后，蚀刻该显示装置的该第一透明基材与该第二透明基材，藉以减少该第一透明基材与该第二透明基材的厚度。