[发明专利]显影装置和包括该显影装置的图像形成设备有效

专利信息
申请号: 201210102088.9 申请日: 2012-04-09
公开(公告)号: CN102968015A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 上园勉;若井孝文;堤保幸 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08;G03G15/06;G03G15/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林;王小东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 显影 装置 包括 图像 形成 设备
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种显影装置和包括该显影装置的图像形成设备。

背景技术

日本未审专利申请公报No.2005-258345(“具体实施方式”部分,图1)公开了一种防止显影剂(色调剂)熔化在显影剂限制构件(限制刮片)上的技术,该技术这样实施,即:向显影剂载体和显影剂限制构件之间断续地供应显影剂以允许显影剂限制构件上下移动,并且在显影操作执行期间之外的时间段在显影剂载体和显影剂限制构件之间作用交流电场以使显影剂形成条带形状。

日本未审专利申请公报No.6-51623(“示例性实施方式”部分,图5)公开了使用一个或更多个线材清除显影操作之后的显影剂载体上的显影剂,并且还公开了将50到5000Hz、500至1500Vpp的交流(AC)偏压施加到所述线材。

日本未审专利申请公报No.10-319720(“示例性实施方式”部分,图1)公开了一种使多个接触构件与显影操作之后的显影剂载体接触,向显影剂收集方向上的上游接触构件施加直流(DC)偏压,并且向下游接触构件施加交流电场的方法,并且还公开了使用作为所述上游接触构件的膜状构件和使用作为所述下游接触构件的辊状构件施加2kHz、2kVpp的交变电场。

日本未审专利申请公报No.2007-86447(“具体实施方式”部分,图1)公开了布置相反电极以从色调剂载体将显影操作之后的色调剂载体上的残余色调剂清除,然后使该色调剂再次附着至色调剂载体,并且使振动电场作用在所述相反电极上。该申请还公开了使2至3kHz的显影偏压作为所述振动电场。

发明内容

因而,本发明的目的是提高清除显影操作之后的色调剂保持构件上的残余色调剂的清除性能。

根据本发明的第一方面,提供了一种显影装置,该显影装置包括容器、色调剂保持构件、显影电场形成单元、层形成单元、电极构件和低频电场形成单元。所述容器容纳用作显影剂的色调剂,并且具有面对用来保持潜像的潜像保持构件的开口。该色调剂保持构件以可旋转的方式布置在所述容器中,使得该色调剂保持构件在其面对所述开口的部位面对所述潜像保持构件。该色调剂保持构件被构造成保持色调剂并将该色调剂输送到其中所述色调剂保持构件和所述潜像保持构件相面对的显影区域。该显影电场形成单元形成显影电场,该显影电场用于在其中所述色调剂保持构件和所述潜像保持构件相面对的显影区域利用所述色调剂保持构件上的色调剂使所述潜像保持构件上的潜像显影。为所述色调剂保持构件设置所述层形成单元,该层形成单元在所述显影区域之前在所述色调剂保持构件上形成具有预定层厚度的色调剂层,所述电极构件被布置成,在所述色调剂保持构件的旋转方向上位于所述显影区域的下游并位于所述层形成单元的上游的位置处,面对所述色调剂保持构件。该电极构件布置成在与所述色调剂保持构件的旋转方向交叉的方向上延伸。所述电极构件至少包括由导电构件形成的一部分,并且用来在所述导电构件和所述色调剂保持构件之间作用电场。该低频电场形成单元形成极性以预定低频周期性交替改变的低频电场。该低频电场作用在所述电极构件和所述色调剂保持构件之间的残余色调剂上。所述低频电场形成单元使所述色调剂保持构件上的残余色调剂移动而形成条带状凸起,该条带状凸起在所述色调剂保持构件的旋转方向上具有可目视的尺寸,该尺寸取决于所述低频电场的周期。

根据本发明的第二方面,当形成所述低频电场时,所述低频电场形成单元满足关系式f≤v/d,其中v表示所述色调剂保持构件的圆周速度,f表示所述低频电场的频率,d表示所述条带状凸起的一个周期的最小尺寸。

根据本发明的第三方面,所述电极构件为辊状构件,该辊状构件被布置成面对所述色调剂保持构件,所述辊状构件和所述色调剂保持构件之间的间隙超过由所述层形成单元在所述色调剂保持构件上形成的色调剂层的厚度。

根据本发明的第四方面,满足关系式m≥n,其中m表示所述电极构件上的所述低频电场的作用区域在所述色调剂保持构件的旋转方向上的宽度,并且n表示所述色调剂保持构件在所述色调剂保持构件的旋转方向上的移动距离,所述移动距离对应于在所述低频电场中将所述色调剂保持构件上的残余色调剂吸向所述色调剂保持构件的电场分量作用的时间。

根据本发明的第五方面,当形成所述低频电场时,所述低频电场形成单元满足关系式E1≥E2,其中E1表示将色调剂从所述色调剂保持构件吸向所述电极构件的电场分量,而E2表示将色调剂从所述电极构件吸向所述色调剂保持构件的电场分量。

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