[发明专利]NH2+离子注入的多壁碳纳米管及其制备方法与应用

权利要求书

1. NH₂⁺离子注入的多壁碳纳米管，其特征在于使用离子注入法将NH₂⁺离子束注入到多壁碳纳米管碳上；其中注入NH₂⁺离子的剂量为5×10¹⁴ ions/cm²—1×10¹⁶ ions/cm²，离子速能量为40 keV；所制备材料的N元素含量为0.99%—0.56% 。

2.权利要求1所述NH₂⁺离子注入的多壁碳纳米管，其中的多壁碳纳米管为粉末状，喷涂在基片上。

3.权利要求2所述NH₂⁺离子注入的多壁碳纳米管，其中的基片指的是以二氧化硅或碳片为衬底的基片。

4. NH₂⁺离子注入的多壁碳纳米管的制备方法，其特征在于使用M EVVA源离子注入机对预先喷涂多壁碳纳米管的基片，采用速流为2μA—6 μA的NH₂⁺离子束进行注入；其中本底真空1×10^-7 Torr，磁场电流为2.27A，NH₂⁺离子束的能量为40KeV，通过控制NH₂⁺离子的注入剂量在多壁碳纳米管上注入NH₂⁺。

5.权利要求4所述的制备方法，其中NH₂⁺离子的注入剂量为5×10¹⁴ ions/cm²—1×10¹⁶ ions/cm² A。

6. 权利要求1所述NH₂⁺离子注入的多壁碳纳米管在制备能够提高多壁碳纳米管材料亲水性方面的应用。

7.权利要求1所述NH₂⁺离子注入的多壁碳纳米管在制备作为具有细胞相容性组织支架材料方面的应用。

8.权利要求1所述NH₂⁺离子注入的多壁碳纳米管在制备作为具有与血液相接触材料方面的应用。