[发明专利]表面处理图纹退镀工艺(PPVD)无效
申请号: | 201210099739.3 | 申请日: | 2012-04-06 |
公开(公告)号: | CN102616083A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 林其松 | 申请(专利权)人: | 深圳市联懋塑胶有限公司 |
主分类号: | B44D5/00 | 分类号: | B44D5/00;B44F9/10;G03F7/09;C25D5/56 |
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地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区龙岗*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 图纹退镀 工艺 ppvd | ||
1.表面处理图纹退镀工艺(PPVD),其特征在于,包括以下步骤:
1)在素材表面涂布UV底漆或超声波清洗素材,并对素材表面进行电镀;
2)喷涂或丝印感光油墨;
3)将菲林放置喷涂或感光油墨的素材表面,定位,并进行真空曝光;
4)将素材置于碱性溶剂浸泡显影;
5)用清水清洗浸泡显影后的素材并进行酸性溶剂浸泡蚀刻;
6)用清水清洗蚀刻后的素材并进行碱性溶剂退膜;
7)纯水清洗,烤箱烘烤,烘烤时间10-30分钟,至水考干为止;
8)再依次涂布UV中漆PU中漆,UV面漆或橡胶漆,得出成品。
2.根据权利要求1所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD),其特征在于,
所述素材为塑胶外壳或者是玻璃或者是陶瓷;所述涂布底漆时膜厚18-20um,温度45至60度,烘烤时间3-5分钟,UV能量700-800焦耳。
3.根据权利要求1所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD),其特征在于,
所述电镀可以是蒸发镀或者是溅射镀或者是光学镀;所述蒸发镀是将镀材,铟,锡,铝等置于真空室内的蒸发源中,在高真空条件下,通过蒸发源加热使其蒸发,凝结于塑胶表面上,形成金属膜;所述溅射镀是靶材在高真空条件下,通过辉光放电冲撞靶材表面,使靶材表面粒子溅射,沉积于素材上形成金属膜;所述光学镀是将真空舱内放置离子枪轰击素材表面,进行减反射膜的镀膜。
4.根据权利要求1所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD),其特征在于,
所述喷涂或丝印感光油墨时膜厚5-10um,温度60-70度,烘烤时间10-20分钟。
5.根据权利要求1所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD),其特征在于,
所述碱性溶剂显影时浸泡时间30-40秒,鼓泡5-10秒。
6.根据权利要求1所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD),其特征在于,
所述酸性溶剂蚀刻时浸泡30秒-40秒。
7.根据权利要求1所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD),其特征在于,
所述涂布UV中漆时中漆膜厚10-20um,温度55至65度,烘烤时间3-5分钟,UV能量700-900焦耳;所述涂布PU中漆时中漆膜厚10-20um,温度60-80度,烘烤时间20-30分钟。
8.根据权利要求1所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD),其特征在于,
所述涂布UV面漆时面漆膜厚10-15um,温度45至65度,烘烤时间3-5分钟,UV能量800-1200焦耳;所述涂布橡胶漆时漆膜厚40-50um,温度70-80度,烘烤时间30分钟。
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