[发明专利]引线框架及半导体装置有效

专利信息
申请号: 201210098663.2 申请日: 2012-03-27
公开(公告)号: CN102738109A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 吴宗昭;吉江崇;大串正幸 申请(专利权)人: 新光电气工业株式会社
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L23/31
代理公司: 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 代理人: 段迎春
地址: 日本长野县*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 引线 框架 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种用于树脂密封型半导体装置的引线框架,其中所述半导体装置包括具有电极的半导体元件、连接至所述半导体元件之电极的接合线、及覆盖并且密封所述半导体元件和所述接合线的密封树脂,所述引线框架包括:

包括多根引线的基底框架;

四层电镀,其施加至所述基底框架上连接至所述接合线并且由所述密封树脂密封的一部分,其中所述四层电镀包括由Ni或Ni合金形成的第一镀层、由Pd或Pd合金形成的第二镀层、由Ag或Ag合金形成的第三镀层、及由Au或Au合金形成的第四镀层,它们依此次序层叠在所述基底框架的所述部分上;及

三层电镀,其施加至所述基底框架上从所述密封树脂暴露的暴露区域,其中所述三层电镀包括所述第一镀层、所述第二镀层、及所述第四镀层,它们依此次序层叠在所述基底框架的所述暴露区域上。

2.如权利要求1所述的引线框架,其中所述基底框架包括焊垫,所述半导体元件安装在所述焊垫上。

3.如权利要求1所述的引线框架,其中所述四层电镀施加至所述基底框架上由所述密封树脂所密封的整个密封区域。

4.如权利要求1所述的引线框架,其中所述第三镀层的厚度为大于等于0.05μm~小于等于3.5μm。

5.如权利要求1所述的引线框架,其中

各所述多根引线包括外端和内端,

所述三层电镀施加至所述引线的外端,并且

所述四层电镀施加至所述引线的内端。

6.一种半导体装置,包括:

如权利要求1所述的引线框架;

所述半导体元件;

将所述半导体元件的电极电气连接至所述四层电镀的所述接合线;及

覆盖并且密封所述半导体元件、所述接合线、及部分所述引线的所述密封树脂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新光电气工业株式会社,未经新光电气工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210098663.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top