[发明专利]用于定制的均匀性分布的电镀设备

权利要求书

1.一种在经阴极性偏置的衬底上电镀金属同时控制方位均匀性的方法，所述方法包括：

(a)将所述衬底提供到经配置以用于在电镀期间旋转所述衬底的电镀设备中，其中所述设备包括阳极和固定的辅助方位上不对称的电极；以及

(b)在旋转所述衬底的同时且在与所述衬底的所述旋转相关地将功率提供到所述辅助方位上不对称的电极的同时在所述衬底上电镀所述金属，使得所述辅助方位上不对称的电极以与所述衬底的第二部分不同的方式将镀敷电流转向和/或赠予到所述衬底的在所述衬底的选定方位位置处的第一部分，与所述第一部分相比，所述第二部分具有相同的平均弧长和相同的平均径向位置且驻留在不同的方位角位置处。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述辅助方位上不对称的电极是C形的。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述辅助方位上不对称的电极是在方位电流界限结构中。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述辅助方位上不对称的电极容纳在单独腔室中，且来自所述辅助电极的镀敷电流的暴露在小于120度的弧角度上穿过至少一个通道，所述至少一个通道将电流递送到单元的在所述衬底的外围附近的区中。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述辅助方位上不对称的电极经阴极性偏置且经配置以在电镀期间从所述衬底的不同方位位置转向不同量的镀敷电流。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述辅助方位上不对称的电极经阳极性偏置且经配置以在电镀期间对所述衬底的不同方位位置赠予不同量的镀敷电流。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述辅助方位上不对称的电极在电镀期间经阳极性和阴极性偏置，且经配置以从所述衬底上的第一方位位置转向镀敷电流和对所述衬底上的第二方位位置赠予镀敷电流。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述设备包括屏蔽件，所述屏蔽件在所有方位位置处屏蔽所述衬底的外围，且其中所述辅助方位上不对称的电极至少在所述衬底的完整旋转的时间的一部分期间经阳极性偏置，且经配置以对所述衬底上的所述选定方位位置赠予电流。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述辅助方位上不对称的电极与所述衬底之间的距离不大于所述衬底的半径的20％。

10.一种在经阴极性偏置的衬底上电镀金属的方法，所述方法包括：

(a)将所述衬底提供到经配置以用于在电镀期间旋转所述衬底的电镀设备中，其中所述设备包括位于所述衬底附近的辅助方位上不对称或多分段阳极；以及

(b)在旋转所述衬底的同时且在以大体上恒定电平将功率提供到所述辅助方位上不对称或多分段阳极以对所述衬底赠予电流的同时在所述衬底上电镀所述金属。

11.一种用于在衬底上电镀金属的电镀设备，所述设备包括：

(a)镀敷腔室，其经配置以包含电解液、阳极和方位上不对称的辅助电极；

(b)衬底固持器，其经配置以固持所述衬底；以及

(c)控制器，其包括用于进行如下操作的程序指令：在旋转所述衬底的同时且在与所述衬底的所述旋转相关地将功率提供到所述辅助方位上不对称的电极的同时在所述衬底上电镀所述金属，使得所述辅助方位上不对称的电极以与所述衬底的第二部分不同的方式将镀敷电流转向和/或赠予到所述衬底的在所述衬底的选定方位位置处的第一部分，与所述第一部分相比，所述第二部分具有相同的平均弧长和相同的平均径向位置且驻留在不同的角方位位置处。

12.一种系统，其包括根据权利要求11所述的设备和步进器。

13.一种用于在衬底上电镀金属的电镀设备，所述设备包括：

(a)镀敷腔室，其经配置以包含电解液；

(b)衬底固持器，其经配置以在电镀期间固持和旋转所述衬底；

(c)阳极；以及

(d)方位上不对称的辅助电极，其经配置以在电镀期间经阳极性和阴极性偏置。