[发明专利]流体处理系统

权利要求书

1.一种流体处理系统，其特征在于，包括：

入口；

出口；

布置在所述入口和所述出口之间的流体处理区，所述流体处理区包括第一壁表面和与所述第一壁表面相对的第二壁表面；

第一辐射源组件，所述第一辐射源组件包括具有第一纵向轴的辐射源，所述第一纵向轴横过流体流过所述流体处理区的方向；

布置在第一壁表面内的第一流体接收部，以在所述第一壁表面与所述第一流体接收部之间限定第一汇合部，所述第一流体接收部包括第一顶部，所述第一顶部构造成(i)所述第一辐射源的第一中点与所述第一顶部之间的第一距离比(ii)所述第一中点与所述第一汇合部之间的第二距离的第一比率大于或等于1。

2.如权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述第一流体接收部包括弯曲的横截面。

3.如权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述第一流体接收部包括部分圆形的横截面。

4.如权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述第一流体接收部包括半圆形的横截面。

5.如权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述第一流体接收部包括以直线为边的横截面。

6.如权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述第一流体接收部包括正方形的横截面。

7.如权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述第一流体接收部包括三角形的横截面。

8.如权利要求1所述的流体处理系统，其特征在于，所述第一流体接收部包括两侧对称的梯形形状的横截面。

9.如权利要求1-4中的任何一项所述的流体处理系统，其特征在于，所述第一比率等于1。

10.如权利要求5-8中的任何一项所述的流体处理系统，其特征在于，所述第一比率大于1。

11.如权利要求1-10中的任何一项所述的流体处理系统，其特征在于，沿着与流体流过所述流体处理区的方向正交的第一直线测量所述第一距离。

12.如权利要求1-11中的任何一项所述的流体处理系统，其特征在于，所述第一辐射源组件的边缘相对于所述第一壁表面隔开一定距离，以在所述第一辐射源组件的边缘与所述第一壁表面之间限定第一间隙。

13.如权利要求1-12中的任何一项所述的流体处理系统，其特征在于，进一步包括第二辐射源组件，所述第二辐射源组件包括具有第二纵向轴的辐射源和第二流体接收部，所述第二纵向轴横过流体流过所述流体处理区的方向，所述第二流体接收部布置在所述第二壁表面内以在所述第二壁表面与所述第二流体接收部之间限定第二汇合部，所述第二流体接收部包括第二顶部，该第二顶部构造成(i)所述第二辐射源的第二中点与所述第二顶部之间的第三距离比(ii)所述第二中点与所述第二汇合部之间的第四距离的第二比率大于或等于1。

14.如权利要求13所述的流体处理系统，其特征在于，所述第二流体接收部包括弯曲的横截面。

15.如权利要求13所述的流体处理系统，其特征在于，所述第二流体接收部包括部分圆形的横截面。

16.如权利要求13所述的流体处理系统，其特征在于，所述第二流体接收部包括半圆形的横截面。

17.如权利要求13所述的流体处理系统，其特征在于，所述第二流体接收部包括以直线为边的横截面。

18.如权利要求13所述的流体处理系统，其特征在于，所述第二流体接收部包括正方形的横截面。

19.如权利要求13所述的流体处理系统，其特征在于，所述第二流体接收部包括三角形的横截面。

20.如权利要求13所述的流体处理系统，其特征在于，所述第二流体接收部包括两侧对称的梯形形状的横截面。

21.如权利要求13-16中的任何一项所述的流体处理系统，其特征在于，所述第二比率等于1。

22.如权利要求17-20中的任何一项所述的流体处理系统，其特征在于，所述第二比率大于1。