[发明专利]一种适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置

权利要求书

1.一种适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置，其特征在于：包括设置在等离子体工艺设备的真空腔室外面的驱动装置、设置在所述真空腔室内的承载被传动的物体的承载装置和成对永磁体组对，该驱动装置的动力输出轴上连接传动装置，在所述传动装置上设置所述永磁体组对中的一组永磁体，在所述承载装置上的对应位置上设置另一组永磁体；成组对的永磁体隔着所述真空腔室的间壁对应设置。

2.根据权利要求1所述的适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置，其特征在于：所述的一组永磁体在一个平面上分布；和/或，

一组所述永磁体是一块，或者是多块。

3.根据权利要求1所述的适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置，其特征在于：所述真空腔室的材料可使用金属铝或者铝合金，或者是陶瓷，或者是硬质塑料；或者，

所述真空腔室的腔壁厚度在5-30毫米的范围内；或者，

在所述永磁铁组对运动的行程范围内，所述真空腔室的腔室壁厚等厚。

4.根据权利要求1所述的适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置，其特征在于：所述永磁体是稀土系列的钕磁铁或钐钴磁铁。

5.根据权利要求1所述的适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置，其特征在于：所述的永磁体组对中一组永磁体与另一组永磁体的端面相对设置，且所述的一组永磁体在一个平面上分布。

6.根据权利要求1所述的适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置，其特征在于：在所述真空腔室内外分别设置有一运动导轨，在真空腔室外面的所述驱动装置和/或传动装置以及在真空腔室内的所述承载装置设置在相应的导轨上，所述真空腔室内外的运动导轨的相对位置对准；或者，

所述驱动装置的水平或垂直运动速率低于10米/分钟。

7.根据权利要求6所述的适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置，其特征在于：在所述运动导轨和所述驱动装置和/或传动装置以及所述承载装置之间设置以减少摩擦力的运动辊轮或滚珠或滚柱。

8.根据权利要求1至7之一所述的适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置，其特征在于：所述永磁体为长条形，该长条形的永磁铁在排布时，使其长轴方向沿运动方向设置；和/或，

所述永磁体为剩磁度在0.5-1.5特斯拉的永磁体。

9.根据权利要求8所述的适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置，其特征在于：所述永磁体为钕磁铁，其剩磁度在0.6—1.4特斯拉；或者，所述永磁体为钐钴磁铁，其剩磁度在0.8—1.2特斯拉。