[发明专利]干涉仪模块

权利要求书

1.一种光刻系统，包括：

激光器单元(31)，用于产生相干的激光束(b)；

真空壳体(2)；

位于所述真空壳体(2)内的框架(4)；位于所述真空壳体(2)内的光学柱(36)安装到所述框架(4)，以将图案投射到目标上，其中所述光学柱(36)设置有第二反射镜(81)；

位于所述真空壳体(2)内的目标载体，用于使所述目标相对于所述光学柱(36)移动，其中所述目标载体设置有第一反射镜(21)；

差分干涉仪模块(60)，用于接收所述相干的激光束(b)，所述干涉仪模块(60)被布置为在所述第一反射镜(21)上发射测量光束(Mb)以及在所述第二反射镜(81)上发射参考光束(Rb)，所述干涉仪模块(60)被构造为相对于所述第一反射镜(21)和第二反射镜(81)之间的相对位置提供一个或多个输出信号，

所述系统还包括：

控制器(95)，用于基于所述一个或多个输出信号来控制所述目标载体相对于所述光学柱(36)的移动，所述控制器(95)耦接到所述干涉仪模块(60)以接收所述一个或多个输出信号，所述控制器被包含在所述系统中且位于所述真空壳体(2)外部，以及

光纤(92)；

其中所述激光器单元(31)被包含在所述系统中且位于所述真空壳体(2)外部，所述干涉仪模块(60)安装到所述真空壳体(2)内的框架(4)上并且包括输入，该输入经由光纤(92)耦接到所述激光器单元(31)。

2.根据权利要求1所述的光刻系统，所述干涉仪模块包括：

光束组合器(101)，用于将所述测量光束(Mb)和所述参考光束(Rb)的反射光组合成组合光束(Cb)；

非偏振分束器(105)，用于将所述组合光束分成第一分光束和第二分光束，每一种分光束包含所述测量光束和所述参考光束的分量；

第一偏振分束器(106)，用于将所述第一分光束分成具有第一偏振的第一偏振光束和具有第二偏振的第二偏振光束；

第二偏振分束器(107)，用于将所述第二分光束分成具有第三偏振的第三偏振光束和具有第四偏振的第四偏振光束；

第一、第二、第三和第四检测器(108，109，110，111)，用于分别检测所述第一偏振光束、所述第二偏振光束、所述第三偏振光束和所述第四偏振光束的光束能量，以及提供所述一个或多个输出信号，

其中，所述第一偏振光束、所述第二偏振光束、所述第三偏振光束和所述第四偏振光束的所述偏振是不同的偏振。

3.根据权利要求2所述的光刻系统，其中所述控制器(95)还被构造为基于由所述第一、第二、第三和第四检测器检测到的光束的光束能量来控制所述目标载体相对于所述光学柱(36)的移动。

4.根据权利要求2所述的光刻系统，其中所述干涉仪模块(60)还被构造为向着所述第一反射镜和相应的第二反射镜发射两种另外的测量光束和两种对应的另外的参考光束，其中，所述光束组合器还适用于将所述另外的测量光束和所述对应的另外的参考光束的反射光组合成两种另外的组合光束，该两种另外的组合光束与所述组合光束平行，其中，所述非偏振分束器被布置用于将所述另外的组合光束分成另外的第一分光束和另外的第二分光束，并且，其中，所述第一偏振分束器和所述第二偏振分束器被布置用于分别将所述另外的第一分光束和所述另外的第二分光束分成另外的第一、第二、第三和第四偏振光束，所述另外的第一、第二、第三和第四偏振光束被引导到另外的第一、第二、第三和第四检测器上。

5.根据权利要求4所述的光刻系统，其中所述干涉仪模块(60)还包括阻挡元件，该阻挡元件包括三个可变光阑，其中，所述阻挡元件被布置在所述光束组合器和所述非偏振分束器之间，用于分别部分地阻挡所述组合光束和所述两种另外的组合光束。

6.根据权利要求2所述的光刻系统，其中所述光束组合器被固定地附接到所述非偏振分束器，从而形成宏元件。

7.根据权利要求2或6所述的光刻系统，其中所述干涉仪模块包括：

光束源，适用于提供三种相干光束；

分束器单元，适用于将所述三种相干光束分成相应对的测量光束和相关联的参考光束，其中，三种测量光束入射在第一反射镜上，并且，其中，三种参考光束入射在能够相对于所述第一反射镜移动的第二反射镜上，

其中，所述光束组合器被布置用于将每一种反射的测量光束和其相关联的反射的参考光束组合，从而形成三种组合光束。