[发明专利]多层反射镜和光刻设备有效
| 申请号： | 201210091159.X | 申请日： | 2012-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN102736441B | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | A·M·雅库尼恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G21K1/06;G03F1/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多层 反射 光刻 设备 | ||
1.一种多层反射镜，构造并布置成反射波长在大约6.4nm至大约7.2nm范围内的辐射，所述多层反射镜具有交替层，所述交替层包括第一层和第二层，所述第一和第二层选自下列项构成的组：
U(铀)或其化合物或其氮化物，和B4C层；
Th(钍)或其化合物或其氮化物，和B4C层；
La(镧)或其化合物或其氮化物，和B9C层；
La(镧)或其化合物或其氮化物，和B4C层；
U(铀)或其化合物或其氮化物，和B9C层；
Th(钍)或其化合物或其氮化物，和B9C层；
La(镧)或其化合物或其氮化物，和B(硼)层；
U(铀)或其化合物或其氮化物，和B(硼)层；
C(碳)或其化合物或其氮化物，和B(硼)层；以及
Th(钍)或其化合物或其氮化物，和B(硼)层；
和
其中所述多个第一层中的至少一个第一层与第二层通过设置在所述多个第一层中的所述至少一个第一层和第二层之间的隔层而被分开，隔层包括基本上固态形式的Cs(铯)。
2.如权利要求1所述的多层反射镜，其中，所述多个第一层中的每个第一层与第二层通过固态形式的Cs(铯)的隔层而被分开。
3.如权利要求1或2所述的多层反射镜，其中，所述固态Cs(铯)隔层包括一个或多个Cs(铯)单层，或其中所述固态Cs(铯)隔层包括Cs(铯)氢化物。
4.如前述权利要求中任一项所述的多层反射镜，其中，所述第一和第二层选自下列项构成的组：
La(镧)或其化合物或其氮化物，和B(硼)层；
La(镧)或其化合物或其氮化物，和B4C层；以及
La(镧)或其化合物或其氮化物，和B9C层。
5.如前述权利要求中任一项所述的多层反射镜，其中，第一层的厚度和第二层的厚度的和在大约2.2nm至大约3.5nm范围内。
6.如前述权利要求中任一项所述的多层反射镜，其中，所述交替层的周期厚度是第一层或第二层的厚度的大约1.7至大约2.5倍之间。
7.如前述权利要求中任一项所述的多层反射镜，其中，所述多层反射镜形成构造并布置成在辐射束的横截面上提供图案给辐射束的图案形成装置的至少一部分。
8.如权利要求7所述的多层反射镜，其中，所述图案形成装置是掩模版或掩模。
9.如权利要求8所述的多层反射镜，其中，所述掩模版或掩模设置有具有吸收材料布置成限定图案的结构，所述吸收材料是Cr、Ta、Ti、Si、Ru、Mo、Al或其任何组合。
10.如前述权利要求中任一项所述的多层反射镜，其中，所述多层反射镜具有反射表面，所述反射表面设置有包括Ru、Rh、Ta、Ti或其组合的盖层。
11.一种光刻投影设备，布置成将图案形成装置的图案投影到衬底上，其中所述光刻投影设备包括根据权利要求1-10中任一项所述的多层反射镜。
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