[发明专利]彩膜基板、显示装置及彩膜基板的制备方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，该彩膜基板包括彩色色阻层，其特征在于，所述彩色色阻层包括至少三种光子晶体结构，用于透射至少三个波段的光线。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述至少三种光子晶体结构由同一种具有第一折射率的材料及周期性形成于所述材料上的介电结构构成，所述介电结构具有第二折射率，不同光子晶体结构对应的介电结构的结构参数不同。

3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述具有第一折射率的材料为非金属材料。

4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述介电结构为形成于所述具有第一折射率的材料上的空气孔或柱状结构。

5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述具有第一折射率的材料为氮化硅，所述介电结构为空气孔。

6.如权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述三种光子晶体结构均为二维晶体结构，所述结构参数包括所述空气孔的直径、各空气孔之间的距离、所述空气孔的直径与各空气孔之间的距离的比、以及所述空气孔的刻蚀深度。

7.一种显示装置，其特征在于，该装置包括权利要求1-6任一项所述的彩膜基板。

8.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，该方法包括制备彩色色阻层的步骤，所述彩色色阻层包括至少三种的光子晶体结构，用于透射至少三个波段的光线。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，制备所述彩色色阻层的步骤进一步包括：

在玻璃基板上涂布具有第一折射率的材料的薄膜的步骤；以及

在所述材料的薄膜上周期性形成具有不同的结构参数的介电结构的步骤；

其中，所述介电结构具有第二折射率，不同光子晶体结构对应的介电结构的结构参数不同。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述具有第一折射率的材料为氮化硅，所述介电结构为形成于氮化硅薄膜上的空气孔；

在氮化硅薄膜上周期性形成具有不同的结构参数的介电结构的步骤进一步包括：

按照不同的光子晶体结构所对应的空气孔的结构参数，在所述氮化硅薄膜上形成所需要的空气孔的图形的步骤；以及

刻蚀空气孔的步骤。