[发明专利]光学系统和具有该光学系统的光学设备有效

专利信息
申请号: 201210088502.5 申请日: 2012-03-29
公开(公告)号: CN102736231A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 江口薫;日浅法人 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G02B15/177 分类号: G02B15/177
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 欧阳帆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学系统 具有 光学 设备
【权利要求书】:

1.一种包括透镜单元GLN的光学系统,所述透镜单元GLN包括被布置为比孔径部分SP更接近于物侧的至少一个具有负折光力的透镜单元,

其中,当透镜单元GLN中包括的负透镜的材料的部分色散比差和阿贝数分别由ΔθLN和νLN表示时,满足以下的条件式的负透镜由负透镜LNlow表示:

0.006<ΔθLN  以及

60<νLN,

负透镜LNlow的数量由SUM(LNlow)表示,满足以下的条件式的负透镜由负透镜LNhigh表示:

0.006<ΔθLN  以及

νLN<25,

负透镜LNhigh的数量由SUM(LNhigh)表示,透镜单元GLN中包括的透镜的数量由SUM(L)表示,透镜单元GLN中包括的负透镜的数量由SUM(LN)表示,透镜单元GLN中包括的负透镜的材料的部分色散比差的和由SUM(ΔθLN)表示,在透镜单元GLN中包括的负透镜之中具有最小阿贝数的负透镜由负透镜LNmin表示,所述负透镜LNmin的阿贝数由νLNmin表示,在透镜单元GLN中包括的负透镜之中具有最大阿贝数的负透镜由负透镜LNmax表示,所述负透镜LNmax的阿贝数由νLNmax表示,在负透镜LNhigh的物侧表面顶点与孔径部分SP之间的距离由dNS表示,并且在最物侧的透镜表面顶点与孔径部分SP之间的距离由d1S表示,满足以下的条件式:

0.60<SUM(LN)/SUM(L)<1.00,

0.70<(SUM(LNlow)+SUM(LNhigh))/SUM(LN),

3.50<νLNmax/νLNmin<6.50,

0.30<dNS/d1S≤1.00,以及

0.065<SUM(ΔθLN)<0.250,并且

其中,当所述光学系统是变焦透镜时,孔径部分SP的位置是在所述变焦透镜处于广角端时定义的位置。

2.根据权利要求1所述的光学系统,

其中透镜单元GLN包括正透镜LP,并且

其中,当正透镜LP的材料的阿贝数由νLP表示时,满足以下的条件式:

νLNmin<νLP<νLNmax。

3.根据权利要求1所述的光学系统,

其中,当负透镜LNmin的材料的部分色散比差由ΔθLNmin表示,负透镜LNmin的焦度由表示,并且所述光学系统的焦度由表示时,对于至少一个负透镜LNmin满足以下的条件式:并且

其中,当所述光学系统是变焦透镜时,在所述变焦透镜处于广角端时定义所述光学系统的焦度

4.根据权利要求1所述的光学系统,

其中,当负透镜LNmax的材料的部分色散比差由ΔθLNmax表示,负透镜LNmax的焦度由表示,并且所述光学系统的焦度由表示时,对于至少一个负透镜LNmax满足以下的条件式:并且

其中,当所述光学系统是变焦透镜时,在所述变焦透镜处于广角端时定义所述光学系统的焦度

5.根据权利要求2所述的光学系统,其中,当正透镜LP的材料的部分色散比差的和由SUM(ΔθLP)表示时,满足以下的条件式:

-0.050<SUM(ΔθLP)<0.040,并且

其中,当在透镜单元GLN中仅仅包括一个正透镜LP时,正透镜LP的材料的部分色散比差由SUM(ΔθLP)表示。

6.根据权利要求1所述的光学系统,其中,当负透镜LNmin的材料的部分色散比差由ΔθLNmin表示,负透镜LNmax的材料的部分色散比差由ΔθLNmax表示,负透镜LNmin的焦度的和由表示,并且负透镜LNmax的焦度的和由表示时,满足以下的条件式:

并且

其中,当在透镜单元GLN中仅仅包括一个负透镜LNmin时,负透镜LNmin的焦度由表示,并且当在透镜单元GLN中仅仅包括一个负透镜LNmax时,负透镜LNmax的焦度由表示。

7.根据权利要求2所述的光学系统,其中正透镜LP与负透镜LNlow或负透镜LNhigh一起被包括在同一个透镜单元中。

8.根据权利要求1所述的光学系统,其中所述光学系统从物侧到像侧依次包括具有负折光力的第一透镜单元和在聚焦期间移动的具有正折光力的第二透镜单元。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210088502.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top