[发明专利]一种带指示光的光纤耦合半导体激光器及其封装方法无效
申请号: | 201210088310.4 | 申请日: | 2012-03-29 |
公开(公告)号: | CN103368070A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 张然祥;于果蕾;李沛旭;汤庆敏 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子有限公司 |
主分类号: | H01S5/10 | 分类号: | H01S5/10;H01S5/06;G02B1/10;G02B1/11 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 吕利敏 |
地址: | 250101 山东省济*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 指示 光纤 耦合 半导体激光器 及其 封装 方法 | ||
1.一种带指示光的光纤耦合半导体激光器,其特征在于,其包括封装管壳、在封装管壳内安装有半导体激光器、部分反射镜、反射镜a、反射镜b、反射镜c、增益介质和倍频晶体;在半导体激光器出光方向上依次设置部分反射镜和反射镜a;在部分反射镜的下方设置有反射镜b,在反射镜a下方设置有反射镜c;在反射镜b和反射镜c之间设置有增益介质和倍频晶体;在光路上且在封装管壳上设置有出光孔。
2.根据权利要求1所述的一种带指示光的光纤耦合半导体激光器,其特征在于,所述部分反射镜的光入射面蒸镀有808nm部分反射介质膜,部分反射镜的光出射面蒸镀有808nm增透膜。
3.根据权利要求1所述的一种带指示光的光纤耦合半导体激光器,其特征在于,所述反射镜a的光入射面上蒸镀有808nm增透膜;反射镜a的光出射面上蒸镀有808nm增透膜以及532nm或473nm高反膜两层镀膜。
4.根据权利要求1所述的一种带指示光的光纤耦合半导体激光器,其特征在于,所述反射镜b的光入射面上蒸镀有808nm高反膜。
5.根据权利要求1所述的一种带指示光的光纤耦合半导体激光器,其特征在于,所述反射镜c的光入射面上蒸镀有532nm或473nm高反膜。
6.根据权利要求1所述的一种带指示光的光纤耦合半导体激光器,其特征在于,所述增益介质的光入射面蒸镀808nm增透膜、1064nm或946nm高反膜以及532nm或473nm高反膜三层镀膜;增益介质跟倍频晶体在进行键合,两者接触面不需要镀膜;所述倍频晶体的光出射面蒸镀532nm或473nm增透膜、1064nm或946nm高反膜以及808nm高反膜三层镀膜。
7.根据权利要求1所述的一种带指示光的光纤耦合半导体激光器,其特征在于,所述的增益介质为Nd:YVO4或Nd:YAG,倍频晶体为KDP晶体。
8.一种如权利要求1所述带指示光的光纤耦合半导体激光器的封装方法,其特征在于,其包括如下步骤:
(1)将已经准直的半导体激光器焊接到封装管壳内,使出射的激光光束通过出光孔并对准光学耦合系统的中心;所述已准直的半导体激光器是指:由半导体激光器射出的激光光束顺次经过快轴压缩和慢轴准直;
(2)在半导体激光器出光方向上,由近而远设置部分反射镜和反射镜a;在部分反射镜的下方设置有反射镜b,在反射镜a下方设置有反射镜c;在反射镜b和反射镜c之间设置有增益介质和倍频晶体;在部分反射镜的光入射面蒸镀部分反射介质膜,对一部分激光光束反射;在部分反射镜的光出射面蒸镀增透膜,对另一部分激光光束透射;
(3)调整部分反射镜及各反射镜的反射方向,使激光光束沿下述路径进行传播:半导体激光器发出的激光光束经柱透镜压缩快轴、微透镜准直慢轴后变为固定的激光光束,激光光束通过部分反射镜后,有一部分激光光束透过部分反射镜,然后又透过反射镜a,沿封装管壳出光孔入射到光学耦合系统中;另一部分激光光束经部分反射镜反射到反射镜b上,经反射镜b反射后入射到增益介质,增益介质吸收激光光束作为泵浦光,然后经过倍频晶体转换为可见光光束,可见光光束经反射镜c和反射镜a后跟部分经反射镜a透射出的激光光束合束,最后经出光孔、光学耦合系统光耦合进入光纤。
9.根据权利要求8所述的封装方法,其特征在于,步骤(1)中所述的808nm激光光束为平行光;步骤(2)中,在部分反射镜的光入射面蒸镀部分反射介质膜,对一部分激光光束反射,经反射后的激光光束的功率大于或等于50mW。
10.根据权利要求8所述的封装方法,其特征在于,所述部分反射镜的光入射面蒸镀有808nm部分反射介质膜,部分反射镜的光出射面蒸镀有808nm增透膜;所述反射镜a的光入射面上蒸镀有808nm增透膜;反射镜a的光出射面上蒸镀有808nm增透膜以及532nm或473nm高反膜两层镀膜;所述反射镜b的光入射面上蒸镀有808nm高反膜;所述反射镜c的光入射面上蒸镀有532nm或473nm高反膜;所述增益介质的光入射面蒸镀808nm增透膜、1064nm或946nm高反膜以及532nm或473nm高反膜三层镀膜;增益介质跟倍频晶体在进行键合,两者接触面不需要镀膜;所述倍频晶体的光出射面蒸镀532nm或473nm增透膜、1064nm或946nm高反膜以及808nm高反膜三层镀膜;所述的增益介质为Nd:YVO4或Nd:YAG,倍频晶体为KDP晶体。
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