[发明专利]高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法及涂层板

权利要求书

1.一种高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，其特征在于：在以玻璃材质为衬底（1）的材料上利用磁控溅射法制备太阳光谱选择性吸收涂层（2），具体制备过程为：备衬底（1），对衬底（1）进行清洗，然后锁室大气真空转换，再依次对衬底（1）进行进行真空过渡、磁控溅射镀制、真空过渡、锁室真空大气转换，之后在衬底（1）上便形成太阳光谱选择性吸收涂层（2），使具有太阳光谱选择性吸收涂层（2）的衬底（1）具备性能优异的太阳光谱选择性吸收性能。

2.根据权利要求1所述的高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，其特征在于：具备性能优异的太阳光谱选择性吸收性能是指具有高的吸收比和低的发射比。

3.根据权利要求2所述的高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，其特征在于：吸收比大于0.80，发射比小于0.20。

4.根据权利要求1所述的高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，其特征在于：所述衬底（1）为玻璃材质的材料。

5.根据权利要求1所述的高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，其特征在于：所述衬底材料（1）包括所有玻璃材质，包括具有陷光结构或者经过处理后具备陷光结构的材料（3）。

6.根据权利要求5所述的高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，其特征在于：所述太阳光谱选择性吸收涂层（2）被制备在玻璃衬底（1）的具有陷光结构的面上。

7.由权利要求1所述的高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法所制备的太阳光谱选择性吸收涂层板，其特征在于：该涂层板包括玻璃衬底（1）和太阳光谱选择性吸收涂层（2），太阳光谱选择性吸收涂层（2）制备在玻璃衬底（1）上形成太阳光谱选择性吸收结构。

8.根据权利要求7所述的太阳光谱选择性吸收涂层板，其特征在于：所述玻璃衬底（1）为陷光结构。

9.根据权利要求8所述的太阳光谱选择性吸收涂层板，其特征在于：所述太阳光谱选择性吸收涂层（2）被制备在玻璃衬底（1）上的具有陷光结构的面上。