[发明专利]一种用于制备硅片表面硅纳米柱阵列的溶液及制备方法有效
| 申请号： | 201210087660.9 | 申请日： | 2012-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN102534716A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 蒋永锋;包晔峰;杨可 | 申请（专利权）人： | 河海大学常州校区 |
| 主分类号： | C25D7/12 | 分类号： | C25D7/12;C25D9/08;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 213022 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 硅片 表面 纳米 阵列 溶液 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于制备硅片表面硅纳米柱阵列的溶液，其特征在于，包括如下组分：硅酸盐5-10%，有机醇5-10%，水80-85%；以重量百分比计；
所述硅酸盐为硅酸钠或硅酸钾，所述有机醇为乙醇或丙三醇，所述水为去离子水。
2.根据权利要求1所述溶液制备硅片表面硅纳米柱阵列的方法，其特征在于，把硅片置入所述的溶液中，以硅片为阴极，以惰性电极材料为阳极，在500-700V电压下，处理1-3分钟，取出硅片，即可得到双面排列硅纳米柱阵列的硅片。
3.根据权利要求2所述的制备硅片表面硅纳米柱阵列的方法，其特征在于，所述惰性电极材料为石墨。
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