[发明专利]一种{001}面暴露的具有氧缺陷的可见光二氧化钛纳米片的合成工艺有效
| 申请号： | 201210086815.7 | 申请日： | 2012-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN102631907A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 李和兴;张鹏;朱建;李贵生 | 申请（专利权）人： | 上海师范大学 |
| 主分类号： | B01J21/06 | 分类号： | B01J21/06 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人： | 吴瑾瑜 |
| 地址： | 200234 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 001 暴露 有氧 缺陷 可见光 氧化 纳米 合成 工艺 | ||
1.一种{001}面暴露的具有氧缺陷的可见光二氧化钛纳米片的合成工艺，其特征在于，包括如下步骤：
(1)将摩尔比为1∶0.75～1∶4的钛酸丁酯和四氟化钛溶于溶剂A中得到溶液B；
(2)将溶液B在35～45℃下陈化48h～50h；
(3)将陈化后得到的产物以乙醇为萃取剂，在6～14MPa，230～290℃超临界状态下陈化0.5～8h，通过超临界萃取得到{001}面暴露的具有氧缺陷的可见光二氧化钛纳米片。
2.权利要求1所述{001}面暴露的具有氧缺陷的可见光二氧化钛纳米片的合成工艺，其特征在于，步骤(1)中的溶剂A为浓度为15～20wt％的硝酸的醇水溶液。
3.权利要求2所述{001}面暴露的具有氧缺陷的可见光二氧化钛纳米片的合成工艺，其特征在于，步骤(1)所述醇与水的体积比为1∶20～1∶25。
4.权利要求3所述{001}面暴露的具有氧缺陷的可见光二氧化钛纳米片的合成工艺，其特征在于，步骤(1)所述醇为乙醇。
5.权利要求1所述{001}面暴露的具有氧缺陷的可见光二氧化钛纳米片的合成工艺，其特征在于，步骤(1)中Ti元素与溶剂A的摩尔体积比为7∶20～7∶105。
6.权利要求5所述{001}面暴露的具有氧缺陷的可见光二氧化钛纳米片的合成工艺，其特征在于，步骤(1)中Ti元素与溶剂A的摩尔体积比为7∶105。
7.权利要求1所述{001}面暴露的具有氧缺陷的可见光二氧化钛纳米片的合成工艺，其特征在于，步骤(2)中陈化温度为40℃，时间为48h。
8.权利要求1所述{001}面暴露的具有氧缺陷的可见光二氧化钛纳米片的合成工艺，其特征在于，步骤(3)中陈化温度为260℃，陈化时间为2h。
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