[发明专利]由展平的图形数据库系统布局进行层次重建的系统和方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体领域，更具体地，本发明涉及一种由展平的图形数据库系统布局进行层次重建的系统和方法。

背景技术

图形数据库系统(“GDSII”)及其后续产品——开放原图系统交换标准(Open Artwork System Interchange Standard，“OASIS”)为集成电路(“IC”)设计中常用的设计数据布局格式。一般而言，GDSII或者OASIS文件内的数据由单元创建，在某些情况下，较低级别参照其他从属单元，这种从属单元称为“子单元(subcell)”。

为了简化设计程序和布局复杂性，使用层次建立GDSII和OASIS文件。对于重复的部分，定义子单元，并且双亲单元(parent cell)仅在必要时建立许多实例(instance)，使用具有指定方位的指针将这些实例与原始子单元联系起来。这种结构还能够减少超大文件的尺寸。对于一些布局处理，比如将平面布局转换为FinFET布局或者将伪层插入到稀疏布局内，在处理之后将原始层次布局展平(flattening)。目前尚无支持展平后的层次(hierarchy)重建的实用EDA工具。

被展平的布局具有很多缺点。例如，在已展平布局之后不能单独对每个子单元的布局结构进行分析。另外，对于展平后的每个子单元不能单独运行仿真。最后，被展平的单元的尺寸太大，导致运行时间过长。

因为被展平的布局省略了实例的层次信息，所以仅表示了一个无任何子单元的顶单元(top cell)。当布局转换或者修改之后，由于对于指定段(即，原始子单元)不能执行对布局结构的单独仿真和分析，因此，在程序开发期间部分或全部展平的布局出现了挑战。

将认识到，任何类型的布局图案修改，比如OPC、LOP、虚拟插入或者其他转换可能影响布局中的几何图案。除了几何结构以外，这些转换通过部分或完全展平破坏了布局层次。与原始布局相反，在子单元层次上很难对经过修改的布局进行分析、审查、修正和/或执行LVS/LPE/后仿真，这是因为层次被转换破坏性地改变了。在另一方面，当在最高层次上执行时，这些程序是无效的、效率低且耗时的。可能减少由图案修改引起的不便的一种方式是使修订布局的层次与原始布局的层次更相似。

综上所述，亟需由部分或者完全被展平的布局重建层次布局的系统和方法，其中，在部分或者完全被展平的布局中原始层次被图案修改破坏了。

发明内容

为了解决现有技术中所存在的问题，根据本发明的一个方面，提供了一种由原始布局和修订布局生成集成电路设计的重建布局的方法，所述方法包括：对于原始布局的每个图案：确定与所述原始布局的图案相对应的所述修订布局的图案；以及将所述修订布局的对应图案分配到临时实例，所述临时实例对应于所述原始布局的图案的实例，并且所述临时实例引用到临时单元；由所述临时实例建立临时重建布局；以及由所述临时重建布局生成所述重建布局，其中，所述重建布局的层次与所述原始布局的层次相似。

在该方法中，所述重建布局的图案与所述修订布局的图案相同。

在该方法中，所述生成包括合并所述临时实例，从而使所述临时实例中所有完全相同的临时实例都引用到单个单元，以生成所述重建层次。

在该方法中，所述合并包括建立新单元，所述临时实例引用到所述新单元。

在该方法中，进一步包括：在所述确定之前，分析所述布局以确定包括所述布局的实例的属性。

在该方法中，所述属性包括：位置、镜像、旋转和放大倍数中的至少一种。

在该方法中，所述确定包括：将所述原始布局的所述图案的相对坐标转换成绝对坐标集。

在该方法中，所述绝对坐标集包括：所述布局的顶单元的坐标集。

在该方法中，通过对所述原始布局实施的图案修改形成所述修订布局。

根据本发明的另一方面，提供了一种由原始布局和由对所述原始布局执行的图案修改形成的修订布局生成集成电路设计的重建布局的方法，所述方法包括：提取所述原始布局的所有实例的属性；对于所述原始布局的每个图案：确定与所述原始布局的图案相对应的所述修订布局的图案；将所述修订布局的所述对应图案分配到临时实例，所述临时实例对应于所述原始布局的所述图案所属于的所述实例其中之一，并且将所述临时实例引用到临时单元；由所述临时实例建立临时重建布局；以及合并所述临时实例，从而使所述临时实例中所有相同的临时实例引用到单个单元以生成所述重建布局，其中，所述重建布局的层次与所述原始布局的层次相似，并且所述重建布局的图案与所述修订布局的图案相同。