[发明专利]一种抗菌防辐射面料的制造方法无效

专利信息
申请号: 201210082351.2 申请日: 2012-03-27
公开(公告)号: CN103361969A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 朱预坤;谢春萍;苏旭中;王超;徐伯俊 申请(专利权)人: 江南大学
主分类号: D06M11/83 分类号: D06M11/83
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214122 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 抗菌 防辐射 面料 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及到一种新的抗菌防辐射面料的制造方法,属于纺织加工领域。具体的说是将纳米银离子通过磁控溅射镀膜技术紧密均匀涂覆在竹纤维制成的面料上,使其具有抗菌防辐射功能。

背景技术

在科学技术高速发展的同时,人们对生活质量的要求相应提高,对服装面料的追求也越来越高,优良服装面料的手感与外观,已不能满足人们的需求,人们更希望在穿着舒适的同时能够起到环保、防护和保健的作用,以抗菌除臭、保健、防辐射为主的功能性纺织品成为当前市场上的新宠。因此开发具有绿色保健、抗菌除臭、防辐射的高质量、高附加值产品已是重中之重,此类产品的开发能极大地拓展功能纺织品的市场空间。

银离子具有突出的杀菌效果、安全性以及外观颜色,在无机抗菌剂中多以银离子作为抗菌成分。纳米银离子具有广谱的抗菌性能,是国际公认的安全环保型抗菌剂。其主要特点是安全环保,对人体细胞无毒性、耐高温、不分解、接触式杀菌、重复杀菌。竹纤维是一种新型的纺织材料,具有抗菌除臭、防紫外、吸湿导湿、环保等优良特性。将纳米银离子通过磁控溅射镀膜技术紧密均匀涂覆在竹纤维制成的面料上,其面料具有防电磁辐射、抗菌除臭、抗紫外线、调节体温、消除静电、绿色环保、柔滑舒适等功能,而且经反复洗涤、日晒后仍能保留有其固有特性。面料易于成形,拥有较高的技术含量和较高的附加值,成为当今较好的保健型防辐射服装面料。

磁控溅射技术具有以下优点:1、沉积速度快,基材温升低,对膜层的损伤小;2、溅射所获得的薄膜与基片结合较好;3、对于大部分材料,只要能制成靶材,就可以实现溅射;4、溅射所获得的薄膜纯度高,致密性好,成膜均匀性好;5、溅射工艺可重复性好,可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜;6、能够精确控制镀层的厚度,同时可通过改变参数条件控制组成薄膜的颗粒大小;7、不同的金属、合金、氧化物能够进行混合,同时溅射于基材上;8、易于实现工业化。

发明内容

本发明的目的是提供一种新的抗菌防辐射面料的制造方法,利用磁控溅射技术将纳米银离子覆盖在竹纤维制成的面料上,得到抗菌防辐射面料,纳米银离子构成的薄膜均匀的覆盖沉积在纤维上,且与纤维有较好的结合,增强了抗菌防辐射面料的使用寿命,同时可根据该抗菌防辐射面料的使用领域不同,精确调控纳米银离子薄膜的厚度,易于实现工业化。

该发明的特征在于其制造流程,流程为:将纳米银离子制成靶材,将竹纤维面料制成基片,采用射频磁控溅射设备,将纳米银离子溅射到竹纤维面料制成的基片上沉积成膜,同时通过改变参数条件控制组成薄膜的颗粒大小,精确的控制镀层的厚度,经后处理之后,就制成了具有抗菌防辐射功能的面料。

具体实施方式

以下采用实施例具体说明本发明

实施例1

样品利用射频反应磁控溅射法在JGP560B型超高真空磁控溅射设备上制备。采用纳米银离子制成靶材,直径60mm,厚度4mm。采用30支竹纤维纱制成的平纹面料为基片,样品制备过程中真空室气氛为纯度优于99.99%的氩气,基片与溅射靶的间距为50mm。本底真空为2.5×10-4Pa,控制建设过程中的工作气压为0.75Pa。基片温度控制在室温,射频溅射功率均控制为85W,样品沉积时间1h。

操作流程为:

基底的前处理——将载波片放在基片架上——检查设备,保证溅射室洁净——抽真空泵2.5×104Pa——通入工作气体——预溅射10min——结束溅射,取出样品——面料后处理——得到抗菌防辐射面料。

实施例2

样品利用射频反应磁控溅射法在JGP560B型超高真空磁控溅射设备上制备。采用纳米银离子制成靶材,直径60mm,厚度3mm。采用80支竹纤维纱斜纹面料为基片,样品制备过程中真空室气氛为纯度优于99.99%的氩气,基片与溅射靶的间距为50mm。本底真空为3.5×104Pa,控制建设过程中的工作气压为0.75Pa。基片温度控制在室温,射频溅射功率均控制为95W,样品沉积时间1h。

操作流程为:

基底的前处理——将载波片放在基片架上——检查设备,保证溅射室洁净——抽真空泵2.5×104Pa——通入工作气体——预溅射10min——结束溅射,取出样品——面料后处理——得到抗菌防辐射面料。

应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应该视为本发明的保护范围。

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