[发明专利]涂覆装置

说明书

技术领域

本发明涉及涂覆装置的技术领域。具体地，本发明涉及利用具有涂覆液膜张紧于其上的开口的膜形成体，将涂覆液涂布在涂覆对象表面上以减少涂覆液的使用量的技术领域。

背景技术

存在将涂覆液涂布在诸如圆柱基材和板状基板的涂覆对象的表面以形成涂布膜(薄膜)的涂覆装置。作为这种涂覆装置，存在通过采用浸渍法将涂覆液涂布在涂覆对象上的装置。

在采用浸渍法的涂覆装置中，涂覆对象整体浸入到储存在浸渍槽中的涂覆液中，并且相对于浸渍槽拉出涂覆对象以在涂覆对象的表面上形成涂布膜。

在采用浸渍法的这种涂覆装置中，涂覆对象整体浸入到涂覆液中，使得使用了大量的涂覆液。此外，浸渍槽的高度必须等于或大于涂覆对象，导致装置变得大型化。

因此，公开了这种涂覆装置，其包括：浸渍槽，在其底部具有用于插入涂覆对象的贯通孔，并且其内部储存有涂覆液；密封材料，用于防止涂覆液从涂覆对象和浸渍槽之间的间隙中泄漏等(例如，日本未审查专利申请公开第61-20044号和日本未审查专利申请公开第2009-18268号)。

在这种涂覆装置中，涂覆对象被插入形成于浸渍槽上的贯通孔中，并且在密封材料与涂覆对象的外周面接触的状态下，拉出涂覆对象或者下拉浸渍槽。当移动涂覆对象或浸渍槽时，从涂覆对象的外周面的上侧至下侧顺次涂布有涂覆液，以形成涂布膜，从而成形感光体等。

发明内容

然而，在日本未审查专利申请公开第61-20044号和日本未审查专利申请公开第2009-18268号公开的涂覆装置中，相对于涂覆对象移动浸渍槽，以向涂覆对象的外周面顺次涂布储存在浸渍槽中的涂覆液，使得必须储存有足够量的将涂布至涂覆对象的整个外周面的涂覆液，或者从供给单元提供足够量的涂覆液。因此，涂覆液使用量较大且成形成本较高是极大的缺陷。尤其当涂覆液比较昂贵时，成形成本剧增。

此外，在日本未审查专利申请公开第61-20044号和日本未审查专利申请公开第2009-18268号公开的涂覆装置中，涂覆对象插入形成在浸渍槽底部上的贯通孔中并且相对地拉出涂覆对象，使得必须设置用于防止涂覆液从涂覆对象和浸渍槽之间的间隙泄漏的构造，使得浸渍槽的构造等变得复杂。

在根据本发明的实施方式的涂覆装置中，期望减少涂覆液的使用量并简化构造。

一种涂覆装置，包括：液体储存槽，其中储存有要涂布至涂覆对象的涂覆液；以及膜形成体，具有环状并包括通过将膜形成体浸入储存在液体储存槽中的涂覆液而使得膜张紧于其上的开口。在涂覆装置中，相对于涂覆对象移动膜形成体，并且涂覆对象插入张紧有膜的开口，以将涂覆液涂布至涂覆对象的表面。

因此，在涂覆装置中，形成为环状并包括开口的膜形成体相对于涂覆对象移动，并且涂覆对象被插入其上张紧有涂覆液膜的开口，以将涂覆液涂布至涂覆对象的表面。

在上述涂覆装置中，优选地，膜形成体包括形成为环状的外环部以及形成为环状、包括开口并从外环部的内周缘突出的内环部，并且内环部的前端缘定位在低于外环部的内周缘的位置处。

因此，包括开口并从形成为环状的外环部的内围部突出的内环部的前端缘定位在低于外环部的内周缘的位置处，使得内环部比外环部更容易浸入涂覆液中。

在上述涂覆装置中，优选地，内环部随着从外环部的内周缘靠近开口而相对于外环部倾斜，并且内环部的内周缘被定位在外环部的内周缘的内侧。

因此，内环部随着从外环部的内周缘靠近开口而相对于外环部倾斜，并且内环部的内周缘定位在外环部的内周缘的内侧。因此，外环部的内周缘与涂覆对象之间的间隙大于内环部的内周缘与涂覆对象之间的间隙。

在上述涂覆装置中，优选地，在涂覆对象的下端部以及膜形成体的至少开口浸入储存在液体储存槽中的涂覆液的状态下，开始膜形成体的移动。

因此，在涂覆对象的下端部以及膜形成体的至少开口浸入储存在液体储存槽中的涂覆液的状态下，开始膜形成体的移动。因此，在涂覆对象的外周面与膜形成体的内周缘之间形成膜。

在上述涂覆装置中，优选地，在涂覆对象的位于膜形成体移动方向上的端部上，附接有被形成为在膜形成体移动方向上具有尖细形状的液体滴落防止体。

因此，在涂覆对象的位于膜形成体移动方向上的端部上，附接有被形成为在膜形成体的移动方向上具有尖细形状的液体滴落防止体，使得在膜破裂的情况下，涂覆液的滴落发生在液体滴落防止体的表面上。

在上述涂覆装置中，优选地，膜形成体相对于涂覆对象来回移动。

因此，膜形成体相对于涂覆对象来回移动，使得涂覆液被反复地涂布至涂覆对象。