[发明专利]显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法无效

专利信息
申请号: 201210080787.8 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN102690049A 公开(公告)日: 2012-09-26
发明(设计)人: 松本修治;伊势村次秀;中川浩司;小野和孝;秋叶周作;相泽治夫 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: C03B27/03 分类号: C03B27/03;C03C21/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 化学 强化 玻璃 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法。

背景技术

数码相机、手机及PDA等显示装置等的保护玻璃以及触摸屏显示器的玻璃基板,使用通过离子交换等进行化学强化处理而得到的玻璃(以下,也称为化学强化玻璃)。化学强化玻璃与未强化的玻璃相比,机械强度高,因此,适合用于这些用途(参考日本特开昭57-205343号公报、日本特开平9-236792号公报及日本特开2009-84076号公报)。

显示装置等的保护玻璃及触摸屏显示器的玻璃基板要求具有高的透明性、平滑性及美观性。

作为显示装置等的保护玻璃及触摸屏显示器的玻璃基板,广泛使用对钠钙玻璃进行化学强化而得到的玻璃基板(参考日本特开2007-11210号公报)。钠钙玻璃较为廉价,而且具有通过化学强化能够使形成在玻璃表面上的压应力层的表面压应力为200MPa以上的特征,但是,存在不易使压应力层的厚度为30μm以上的问题。

因此,提出了对与钠钙玻璃不同的SiO2-Al2O3-Na2O系玻璃进行化学强化而得到的玻璃作为这种保护玻璃(参考美国专利申请公开第2008/0286548号说明书及日本特开2010-275126号公报)。上述文献中记载的SiO2-Al2O3-Na2O系玻璃具有如下特征:不仅能够使上述表面压应力为200MPa以上,而且能够使上述压应力层的厚度为30μm以上。

然而,将化学强化玻璃基板用于显示装置用途的情况下,有时会在美观上产生问题。

发明内容

本发明人对美观上产生问题的玻璃基板进行了分析,结果得知,在玻璃基板的表面上产生了极小的凹状的缺陷(以下也称为凹状缺陷)。

因此,本发明的目的在于提供能够抑制凹状缺陷产生的显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法。

本发明人对上述课题进一步进行了深入研究,结果发现,当供于化学强化工序的玻璃的表面上存在钙盐时,经过干燥工序会使钙粘固在玻璃的表面上,从而以粘固的钙为原因,经过化学强化工序而产生凹状缺陷。

而且发现,如果对化学强化工序前的预热工序中的温度条件适当地进行控制,则即使经过化学强化工序也能够有效地抑制玻璃的凹状缺陷,从而完成了本发明。

即,本发明的主旨如下。

1.一种显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法,包括:将玻璃加热至预热温度的预热工序和接着将该玻璃在化学强化处理液中浸渍的离子交换工序,其中,

预热工序中的预热温度与该玻璃的应变点满足下式:

220℃≤(应变点-预热温度)。

2.如上述1所述的显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法,其中,上述(应变点-预热温度)的值为280℃以下。

3.如上述1或2所述的显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法,其中,离子交换工序中的化学强化处理液温度与上述玻璃的应变点满足下式:

120℃≤(应变点-化学强化处理液温度)。

4.如上述3所述的显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法,其中,上述(应变点-化学强化处理液温度)的值为170℃以下。

5.如上述1~4中任一项所述的显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法,其中,预热工序中的预热温度与离子交换工序中的化学强化处理液温度满足下式:

55℃≤(化学强化处理液温度-预热温度)。

6.一种显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法,包括:将玻璃加热至预热温度的预热工序和接着将该玻璃在化学强化处理液中浸渍的离子交换工序,其中,

离子交换工序中的化学强化处理液温度与该玻璃的应变点满足下式:

150℃≤(应变点-化学强化处理液温度),

且该玻璃在化学强化处理液中浸渍的时间为12小时以上。

7.如上述1~6中任一项所述的显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法,其中,形成在显示装置用化学强化玻璃基板的表面上的压应力层的表面压应力为200MPa以上。

8.如上述1~7中任一项所述的显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法,其中,形成在显示装置用化学强化玻璃基板的表面上的压应力层的厚度为30μm以上。

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