[发明专利]一种铜锌锡硫化合物薄膜太阳能电池及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210079048.7 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN102610673A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 何俊;孙琳;杨平雄;褚君浩 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/072;H01L31/18
代理公司: 上海蓝迪专利事务所 31215 代理人: 徐筱梅;张翔
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜锌锡 硫化 薄膜 太阳能电池 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种铜锌锡硫化合物薄膜太阳能电池,包括:由下而上依次设置的玻璃衬底、金属背电极层、P型吸收层、n型硫化镉缓冲层、透明氧化物薄膜窗口层及TCO顶电极,其特征在于:所述p型吸收层为脉冲激光沉积的铜锌锡硫四元化合物薄膜,其薄膜厚度为1000~2000纳米。

2.一种权利要求1所述太阳能电池的制备方法,其特征在于:该方法包括以下具体步骤:

a)清洗衬底

选择玻璃衬底,清洗过程依次为丙酮超声15~30分钟,酒精超声15~30分钟,去离子水超声15~30分钟,用氮气吹干;

b)沉积金属背电极层 

采用射频磁控溅射方法在玻璃衬底上沉积金属背电极层,厚度为800~1200纳米,所用的金属为钼;

c)沉积p型吸收层

用单靶脉冲激光沉积法在金属背电极层上沉积Cu2ZnSnS4薄膜,靶材用Cu2ZnSnS4化合物单靶,先将镀膜室真空抽至10-4Pa,同时玻璃衬底温度升至400~500℃,然后镀膜室内通入氩气至10Pa,沉积时间为1~2小时,最后玻璃衬底温度降至室温,p型吸收层形成,其厚度为1000~2000纳米;

d)沉积n型硫化镉缓冲层

采用化学水浴法在P型吸收层上沉积n型的硫化镉缓冲层,厚度为50~100纳米;

e)沉积透明氧化物薄膜窗口层

在玻璃衬底的n型硫化镉缓冲层上,采用射频磁控溅射方法在n型硫化镉缓冲层上沉积透明氧化物薄膜窗口层,透明氧化物薄膜窗口层为本征氧化锌和参铝氧化锌叠层,本征氧化锌层厚度为100~200纳米,参有铝氧化锌层厚度为600~800纳米;

f)制备顶电极

在透明氧化物薄膜窗口层上加盖栅状或圆形掩膜板,然后采用射频磁控溅射方法镀上TCO导电薄膜。

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