[发明专利]投射式电容触摸屏传感器的制造方法及触摸屏传感器和触摸屏

说明书

技术领域

本发明涉及投射式电容触摸屏传感器的制造方法以及由此获得的投射式电容触摸屏传感器以及使用该投射式电容触摸屏传感器的触摸屏。

背景技术

投射式电容触摸屏主要依靠两层ITO膜(驱动ITO层、感应ITO层)来实现功能，驱动ITO层与感应ITO层可以镀刻在同一块玻璃的两面，也可以分别镀刻在两块玻璃上。从构造上看，驱动ITO层与感应ITO层互补排列成X-Y坐标矩阵，控制IC在驱动ITO层上逐行释放脉冲信号，同时逐列监测感应ITO层的电容变化来确定触控位置，在投射式电容触摸屏四角有四个电极，它们和屏幕表面的导电层共同形成一个稳定的电场。当用户用手触摸电容屏时，由于人体电场，其手指就和工作面形成一个耦合电容，因为工作面上接有高频信号，一股小电流通过手指接触而被释放，这个电流分别从屏的四个角上的电极中流出，且经四个电极的电流与手指头到四角的距离成比例，控制器通过对四个电流比例的精密计算，得出位置。可以达到99％的精确度，具备小于3ms的响应速度。正是投射电容屏的这种图形排列方式和行列扫描机制，从根本上支持多点触控的实现。

投射式电容触摸屏CTP(Capacity Touch Panel)是利用人体的电流感应进行工作的。投射式电容触摸屏是一块两层复合玻璃屏，玻璃屏的内表面和夹层各涂一层ITO(纳米铟锡金属氧化物)，最外层是只有0.0015mm厚的矽土玻璃保护层，夹层ITO涂层作工作面，四个角引出四个电极，内层ITO为屏层以保证工作环境。

投射式电容触摸屏主要有自电容屏与互电容屏两种，以现在较常见的互电容屏为例，内部由驱动电极与接收电极组成，驱动电极发出低电压高频信号投射到接收电极形成稳定的电流。

投射式电容触摸屏要实现多点触控，靠的就是增加互电容的电极，简单地说，就是将屏幕分块，在每一个区域里设置一组互电容模块都是独立工作，所以投射式电容触摸屏就可以独立检测到各区域的触控情况，进行处理后，简单地实现多点触控。

传统的投射式电容触摸屏，其核心部件传感器主要是通过丝印的方式完成对双面ITO玻璃图形的制作及反面ITO层的保护，使用此种制作方式造成传感器制造中工艺流程复杂、效率低、成本过高，图形制作解析度大。

图1示出了传统镀膜式电容触摸屏工艺流程。

图2示出了采用油墨丝印的电容触摸屏工艺流程。

中国专利CN201110331335.8(名称：一种电容触屏双面电极制作方法)公开了一种电容触屏双面电极制作方法，其中包括下列步骤：1、正面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化；2、反面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护反面ITO；3、蚀刻正面ITO、剥离光刻胶和可剥胶；4、反面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化；5、正面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护正面ITO；6、蚀刻反面ITO，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶、由镀膜线反面镀MOALMO；7反面MOALMO层涂上光刻胶、曝光、显影形成图案；8蚀刻反面MOALMO，形成MOALMO图案或线路、剥离反面光刻胶。该发明的有益效果在于：步骤(2)、(3)中用可剥胶代替光刻胶，就可以用丝印机丝印可剥胶而把高成本的黄光线空出来生产其他工序或产品，合理地利用了设备，提高产能，降低了成本。

文献《ITO/PLZT薄膜湿法刻蚀研究》(闻伟等人，2008，30(6)介绍了一种锆钛酸铅镧(PLZT)基铟锡氧化物(ITO)薄膜的湿法刻蚀法。用V(HCI)∶V(HNO3)∶V(H2O)＝50∶3∶50的混合溶液对ITO进行不同温度的刻蚀试验。通过扫描电子显微镜(SEM)和X-射线能谱仪(EDS)分析表明。在35℃经30nm/min刻蚀能得到图形边缘质量良好和表面无残留物的ITO图形；在同等条件下刻蚀的PLZT薄膜，刻蚀速率不及ITO的2％，表明该刻蚀方法具有良好的选择性。

中国专利CN200610061913.X(一种ITO图案的形成方法)提供了一种ITO图案的形成方法，包括以下步骤：A1.在基板上涂布感光性光刻胶；B1.通过曝光、显影将基板上欲形成ITO图案的部分上的感光性光刻胶去除；C1.在该基板上镀上ITO膜；D1.对该基板进行脱膜处理，将剩余的感光性光刻胶及附着在其上的ITO膜层去除，得到所需ITO图案的基板。本发明不需要ITO膜层的刻蚀步骤，从而大幅降低了生产成本，避免了图形出现短路、断路的现象，提高了产品的品质，避免了酸刻液对设备的腐蚀和其造成的危险。

发明内容

本发明的一个目的是提供投射式电容触摸屏传感器的制造方法，该方法包括：