[发明专利]一种一维单晶刚性分子印迹ZnO电极的制备方法有效
申请号: | 201210075273.3 | 申请日: | 2012-03-20 |
公开(公告)号: | CN103316653A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 赵国华;农馥俏;张亚男;柴守宁 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | B01J23/06 | 分类号: | B01J23/06;B01J37/10;C02F1/32;C02F1/58 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 林君如 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 一维单晶 刚性 分子 印迹 zno 电极 制备 方法 | ||
1.一种一维单晶刚性分子印迹ZnO电极的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
(1)将纯金属钛片表面用金相砂纸进行打磨抛光,在含有0.05~1.0wt%的NH4F,1.6~2.0wt%的Na2SO4以及10~50wt%分子量为400的聚乙二醇的溶液中以钛片为工作电极,铂片为对电极,进行电化学阳极氧化处理,将制备得到的电极在管式炉中采用程序升温进行热处理,即按1~5℃/min的升温速率升至450~550℃热处理3~5h;
(2)用匀胶机将1~5mmol/L Zn(CH3COO)2的乙醇溶液旋涂于经步骤(1)阳极氧化预处理得到的钛片上,然后置于马弗炉中,在空气气氛下,以300℃~350℃热解0.5h~1h,获得致密且均匀分布的ZnO晶种层;
(3)将等摩尔的Zn(NO3)2及(CH2)6N4溶解在去离子水中,得到Zn2+浓度为0.02~0.04mol L-1的前驱体溶液,然后,将步骤(2)处理得到的基体电极浸入前驱体溶液中,正面朝下放置于特氟龙内衬的不锈钢高压反应釜中,于90℃反应5h,取出电极,用去离子水冲洗,去除表面残留物,即制备得到一维单晶刚性分子印迹ZnO电极。
2.根据权利要求1所述的一种一维单晶刚性分子印迹ZnO电极的制备方法,其特征在于,步骤(3)中所述的前驱体溶液中还可以加入1.00~2.00mmol/L的模板物质,对制备得到的电极采用乙醇溶液萃取进行模板物质,并经去离子水洗涤,重复3~5次即制备得到具有目标物质分子印迹识别位点的ZnO电极。
3.根据权利要求2所述的一种一维单晶刚性分子印迹ZnO电极的制备方法,其特征在于,所述的模板物质包括苯酚、对羟基苯甲酸、双酚A、2,4-二羟基苯甲酸、氧乐果或马拉硫磷。
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